您好,欢迎您查看分析测试百科网,请问有什么帮助您的?
如果企业客服不在线,也可拨打400电话联系。或者发布求购信息
KRI Ion Source RFICP 200, Gridded RF Ion SourceKRI Ion Source RFICP 200 是一款大型的有栅极离子源,离子能量范围 100~1000 eV,非常适合于典型的离子束辅助沉积和离子束刻蚀。特有的大面积束源和高密度使它能够满足一些极端的工艺并获得高的均匀性。因此 RFICP 200 被广泛应用在大型离子辅助的盒式镀膜机和较大尺寸 wafer的离子刻蚀系统。KRI Ion Source 有栅极离子源RFICP 200 产品参数
Model
RFICP 200
Discharge
RF inductive
Filamentless
Yes
RF power
>0.5 kW
Ion optics
OptiBeamTM
Grids
Application specific
Alignment
Self-aligned
Neutralizer
Yes (options)
Power controller
RFICP ion Power Pack
Options
Beam Shape
Collimated, convergent, divergent
Water cooled
上海伯东KRI 考夫曼离子源 RPICP 200, RPICP 200
上海伯东KRI 考夫曼离子源 RPICP 200信息由伯东企业(上海)有限公司为您提供,如您想了解更多关于上海伯东KRI 考夫曼离子源 RPICP 200报价、型号、参数等信息,欢迎来电或留言咨询。
群组论坛--测试分析仪器专家
您可能要找:考夫曼化学/化工上海伯东KRI 考夫曼离子源 RPICP 200价格 RPICP 200化学/化工参数
Copyright ©2007 ANTPedia, All Rights Reserved
京ICP备07018254号 京公网安备1101085018 电信与信息服务业务经营许可证:京ICP证110310号