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KRI Ion Source RFICP 140, Gridded RF Ion SourceKRI Ion Source RFICP 140 是一款紧凑的有栅极离子源,非常适合于离子束溅射沉积、离子辅助沉积和离子束刻蚀。在离子束溅射工艺中,离子源配有离子光学元件,可以很好的控制离子束去溅射靶材,实现完美的薄膜特性。同样的在离子束辅助沉积和离子束刻蚀工艺中,最佳的离子光学元件能够完成发散和聚集离子束的任务。就标准的型号而言,可以在离子能量为 100~1000 eV 范围内获得很高的离子密度。KRI Ion Source 有栅极离子源RFICP 140产品详细参数
Model
RFICP 140
Discharge
RF inductive
Filamentless
Yes
RF power
>0.5 kW
Ion optics
OptiBeamTM
Grids
Application specific
Alignment
Self-aligned
Neutralizer
Yes (options)
Power controller
RFICP ion Power Pack
Options
Beam Shape
Collimated, convergent, divergent
Water cooled
上海伯东KRI 考夫曼离子源 RPICP 140, RPICP 140
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