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日立高新磁控溅射器(Hitachi Ion Sputter )MC1000采用了电磁管电极,能够最大限度地减轻对样品的损坏,并在样品表面涂覆一层均匀粒子。适用于高分辨率的扫描式电子显微镜。日立高新磁控溅射器(Hitachi Ion Sputter )MC1000的最大样品直径:60 mm日立高新磁控溅射器(Hitachi Ion Sputter )MC1000的最大样品高度:20 mm 特点:采用LCD触摸屏,可以更加简便地设定加工条件可处理较厚或较大的样品(选配件)记忆功能可存储常用加工条件规格:
喷镀速率(最大)[条件]
压力:7Pa
放电电流:40mA
标靶与样品表面之间的距离:20mm
﹡¹:喷镀速率仅供参考
﹡²:主机内不包括靶材。请从选项中选择(鉑,铂-钯,金,金-钯)
日立高新磁控溅射器MC1000 ,MC1000
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