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日立高新离子研磨装置IM4000(HITACHI Ion Milling System IM4000 )具有断面加工和平面研磨功能的混合仪器! 日立高新离子研磨装置IM4000(HITACHI Ion Milling System IM4000 )的混合模式带有两种研磨配置: 断面加工:将样品断面研磨光滑,便于表面以下结构高分辨成像。 平面研磨:将样品表面均匀研磨5平方毫米,从不同角度有选择地研磨,以便突出样品的表面特性。 日立高新离子研磨装置IM4000(HITACHI Ion Milling System IM4000 )的高通量能提高加工效率:与之前的E-3500型相比,采用新型离子枪设计,减少了横截面研磨时间。(最大加工率:硅元素为300微米/小时--加工时间减少了66%。 日立高新离子研磨装置IM4000(HITACHI Ion Milling System IM4000 )的可拆卸样品台装置:为便于样品设置和定义研磨边缘,可将样品台装置拆卸。
特点
混合模式:两种研磨配置 断面加工:将样品断面研磨光滑,便于表面高分辨观察 平面研磨:不同角度有选择地,大面积,均匀地研磨5 mm的平面,以突显样品的表面特性
高效:提高加工效率,与之前的E-3500型相比,采用新型离子枪设计,减少了横截面研磨时间(最大加工速度:硅材质为300 μm/h - 加工时间减少了66%)
可拆卸式样品台:为便于样品设置和边缘研磨,样品台设计为可拆卸型 规格
约20μm/h﹡³(点)
约2μm/h﹡⁴(面)
﹡¹:此研磨速率是对研磨板边缘处的硅材质的材料研磨至100μm粒度时所获得的最大深度值
﹡²:此研磨速率是对硅材质的材料进行研磨两小时后获得的平均值
﹡³:照射角度60°偏心值4mm
﹡⁴:照射角度0°偏心值0mm
日立高新离子研磨装置IM4000 ,IM4000
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