EMPro 多入射角激光椭偏仪(赛凡光电)

EMPro是针对高端研发和质量控制领域推出的极致型多入射角激光椭偏仪。
EMPro可在单入射角度或多入射角度下进行高精度、高准确性测量。可用于测量单层或多层纳米薄膜样品的膜层厚度、折射率n和消光系数k；也可用于同时测量块状材料的折射率n和消光系数k；亦可用于实时测量快速变化的纳米薄膜动态生长中膜层的厚度、折射率n和消光系数k。多入射角度设计实现了纳米薄膜的绝对厚度测量。
EMPro采用了量拓科技多项专利技术。

特点：

• 原子层量级的极高灵敏度

• 百毫秒量级的快速测量

• 简单方便的仪器操作

应用：

EMPro适合于高精度要求的科研和工业产品环境中的新品研发或质量控制。EMPro可用于测量单层或多层纳米薄膜层构样品的薄膜厚度、折射率n及消光系数k；可用于同时测量块状材料的折射率n和消光系数k；可用于实时测量快速变化的纳米薄膜的厚度、折射率n和消光系数k。EMPro可应用的纳米薄膜领域包括：微电子、半导体、集成电路、显示技术、太阳电池、光学薄膜、生命科学、化学、电化学、磁介质存储、平板显示、聚合物及金属表面处理等。可应用的块状材料领域包括：固体（金属、半导体、介质等），或液体（纯净物或混合物）。

技术指标：

    注：(1)精度：是指对标准样品上同一点、同一条件下连续测量25次所计算的标准差。

性能保证： 

• 高稳定性的He-Ne激光光源、先进的采样方法以及低噪声探测技术，保证了高稳定性和高准确度

• 高精度的光学自准直系统，保证了快速、高精度的样品方位对准

• 稳定的结构设计、可靠的样品方位对准，结合先进的采样技术，保证了快速、稳定测量

• 分立式的多入射角选择，可应用于复杂样品的折射率和绝对厚度的测量

• 一体化集成式的仪器结构设计，使得系统操作简单、整体稳定性提高，并节省空间

• 一键式软件设计以及丰富的物理模型库和材料数据库，方便用户使用

EMPro 多入射角激光椭偏仪, EMPro

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