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产品特点:
? 椭圆偏振术测量紫外光到可见光波长椭圆参数。
? 0.1nm以上奈米级光学薄膜厚度测量。
? 400波长以上多通道分光的椭偏仪,高速测量椭圆偏光光谱。
? 可自由变换反射测量角度,得到更详细的薄膜解析数据。
? 非线性最小平方法解析多层膜、光学常数。
产品规格:
应用范围:
■半导体晶圆?电晶体闸极(Gate)氧化薄膜、氮化膜,电极材料等?SiO 2、SixOy、SiN、SiON、SiNx、Al 2 O 2、SiNxOy、poly-Si、ZnSe、BPSG、TiN?光阻剂光学常数(波长色散)■化合物半导体?AlxGa (1-x) As多层膜、非结晶矽■平面显示器?配向膜?电浆显示器用ITO、MgO等■新材料?类钻碳薄膜(DLC膜)、超传导性薄膜、磁头薄膜■光学薄膜?TiO 2、SiO 2、多层膜、抗反射膜、反射膜■平版印刷领域?g线(436nm)、h线(405nm)、i线(365nm)、KrF(248nm)等于各波长的n、k值评价
应用范例:
非线性最小平方法比对NIST标准样品(SiO 2)膜厚精度确认
椭圆偏光膜厚测试仪(自动),//
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