脉冲激光沉积系统(PLD)

脉冲激光沉积系统(PLD)、激光分子束外延设备(L-MBE) 设备简介：

产地：美国NBM

PLD是将脉冲激光透过合成石英窗导入真空腔内照射到成膜靶上，靶被照射后吸收高密度能量而形成的plume状等离子体状态，然后被堆积到设在对面的基板上而成膜。PLD方法可以获得拥有热力学理论上准稳定状态的组成和构造的人工合成新材料。

我司PLD特点：
我们PLD系统拥有最好的性能价比,具有以下优异的性能:

• 主真空室腔体直径18英寸，本底真空可达高真空：9X10E-9 Torr（要用Load-lock）。

• 主真空室抽气系统前级泵采用无油干泵

• ★基片加热温度最高可达1200℃。

• 基片台可360度旋转（转速1-20rpm可调）。

• ★基片与靶之间方位采用靶在下方，基片在上方，均水平放置。基片与靶间距沿Z轴（即垂直地面方向）可调。

• 6个装靶的坩埚（或靶盘），各坩埚之间要求相互隔离，不互相污染。

• ★激光器：Coherent 公司COMPexPro 201：Wavelength: 248 nm (KrF)；Pulse Energy：700mJ；Max. Rep. Rate ：10 Hz；Energy stability (one sigma) : 1%； Average Power: 5W；Pulse Duration: 25 ns；Beam Dimensions(V×H): 24×10 mm；Beam Divergence(V×H): 3×1 mrad.

• ★Load Lock System一套（装样-送样系统一套），采用transferengineering公司（Transfer Engineering and Manufacturing, Inc）的，本底真空1×10^-5Pa，带相应的分子泵。同一Load Lock系统既可以传递靶又可以传递基片，可两者间切换操作。

• 设备及光学台可联接在一起，始终保持腔体和激光束位置稳定。支撑腿带可调节的转轮，方便在地面整体（包括腔体系统和激光器）同时移动与固定。

具体配置:
 一， 超高真空腔体
 二， 分子泵
 三， 激光扫描系统
 四， 衬底加热铂金片，最高可达1200度
 五， 基板加热构造设计
 六， 基板加热电源
 七， Rheed
 八， Rheed软件
 九， 多靶位 ，标准配置6个1英寸靶
 十， Load-Lock样品传输腔体

技术参数：
1. 靶：数量6个，大小1-2英寸，被激光照射时可自动旋转，靶的选择可通过步进电机控制。

2. 基板：采用适合于氧气环境铂金加热片，大小2英寸，加热温度可达1200摄氏度，温度差<3%，加热时基板可旋转，工作环境最大压力是300mtorr。

3. 基板加热电源。
4. 超高真空成膜室腔体：不锈钢sus304材质，内表面电解抛光，本底真空度<5e-7 pa。
5. 样品传输室：不锈钢sus304材质，内表面电解抛光，本底真空度<5e-5 pa。
6. 排气系统：分子泵和干式机械泵，进口知名品牌。
7. 阀门：采用超高真空挡板阀。
8. 真空检测：真空计采用进口产品
9. 气路两套：采用气体流量计（MFC）。
10. 薄膜成长监控系统：采用扫描型Rheed（可差分抽气）。
11. 监控软件系统：基板温度的监控和设定，基板和靶的旋转，靶的更换。
12. 各种电流导入及测温端子。
13. 其它各种构造：各种超高真空位移台，磁力传输杆，超高真空法兰，超高真空密封垫圈，超高真空用波纹管等。

感谢河南师范大学国家重点实验室, 清华大学先进材料重点实验室，北京大学微电子系 华中科技大学材料学院 使用此研究级高性能的PLD系统， 望我们高性能价格比的PLD为广大科研人员提供帮助！！

脉冲激光沉积系统(PLD)信息由上海载德半导体技术有限公司为您提供，如您想了解更多关于脉冲激光沉积系统(PLD)报价、型号、参数等信息，欢迎来电或留言咨询。