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产品简介:VTC-600-3HD三靶磁控溅射仪是新自主研制开发的镀膜设备,可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-600-3HD三靶磁控溅射仪配置三个靶枪,一个配套射频电源用于非导电靶材的溅射镀膜,两个配套直流电源用于导电性材料的溅射镀膜。与同类设备相比,其不仅应用广泛,且具有体积小便于操作的优点,是一款实验室制备材料薄膜的理想设备,特别适用于实验室研究固态电解质及OLED等。
产品名称
VTC-600-3HD三靶磁控溅射仪
产品型号
VTC-600-3HD
安装条件
本设备要求在海拔1000m以下,温度25℃±15℃,湿度55%Rh±10%Rh下使用。
1、水:设备配有自循环冷却水机(加注纯净水或者去离子水)
2、电:AC220V 50Hz,必须有良好接地
3、气:设备腔室内需充注氩气(纯度99.99%以上),需自备氩气气瓶(自带?6mm双卡套
接头)及减压阀
4、工作台:尺寸1500mm×600mm×700mm,承重200kg以上
5、通风装置:需要
主要特点
1、配置三个靶枪,一个配套射频电源用于非导电靶材的溅射镀膜,两个配套直流电源用于导电性材料的溅射镀膜(靶枪可以根据客户需要任何调换)。
2、可制备多种薄膜,应用广泛。
3、体积小,操作简便。
4、整机模块化设计,真空腔室、真空泵组、控制电源分体式设计,可根据用户实际需要调整。
5、可根据用户实际需要选择电源,可以一个电源控制多个靶枪,也可多个电源单一控制靶枪。
技术参数
1、电源电压:220V 50Hz
2、总功率:<2.5KW
3、极限真空度:< E-6mbar(配合本公司设备使用可达到 E-5mbar)
4、工作温度:RT-500℃,精度±1℃(可根据实际需要提升温度)
5、靶枪数量:3个
6、靶枪冷却方式:水冷
7、靶材尺寸:?2″,厚度0.1mm-5mm(因靶材材质不同厚度有所不同)
8、直流溅射功率:500W(可选)
9、射频溅射功率:300W/500W(可选)
10、载样台:?140mm
11、载样台转速:1rpm-20rpm内可调
12、保护气体:Ar、N2等惰性气体
13、进气气路:质量流量计控制2路进气,1个流量为100 SCCM,1个流量为200 SCCM
产品规格
主机尺寸:500mm×560mm×660mm,整机尺寸:1300mm×660mm×1200mm;重量:160kg
标准配件
1
直流电源控制系统
2套
2
射频电源控制系统
1套
3
膜厚监测仪系统
4
分子泵(德国进口)
1台
5
冷水机
6
冷却水管(?6mm)
4根
可选配件
金、铟、银、铂等各种靶材
掩膜版
振动样品台
VTC-600-3HD三靶磁控溅射仪,VTC-600- 3HD
VTC-600-3HD三靶磁控溅射仪信息由沈阳科晶自动化设备有限公司为您提供,如您想了解更多关于VTC-600-3HD三靶磁控溅射仪报价、型号、参数等信息,欢迎来电或留言咨询。
VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪
VTC-600-1HD单靶磁控溅射仪
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