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VTC-600-3HD三靶磁控溅射仪
参考价：面议
品牌：沈阳科晶 产地：辽宁 型号：VTC-600- 3HD 样本：来电或留言获取样本
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参数
| 产地类别：国产 | 供应商性质：生产商 | 价格范围：10万-30万 |
产品介绍
产品简介
VTC-600-3HD三靶磁控溅射仪是新自主研制开发的镀膜设备，可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-600-3HD三靶磁控溅射仪配置三个靶枪，一个配套射频电源用于非导电靶材的溅射镀膜，两个配套直流电源用于导电性材料的溅射镀膜。与同类设备相比，其不仅应用广泛，且具有体积小便于操作的优点，是一款实验室制备材料薄膜的理想设备，特别适用于实验室研究固态电解质及OLED等。
主要特点
配置三个靶枪，一个配套射频电源用于非导电靶材的溅射镀膜，两个配套直流电源用于导电性材料的溅射镀膜（靶枪可以根据客户需要任意调换）。
可制备多种薄膜，应用广泛。
体积小，操作简便。
整机模块化设计，真空腔室、真空泵组、控制电源分体式设计，可根据用户实际需要调整。
可根据用户实际需要选择电源，可以一个电源控制多个靶枪，也可多个电源单一控制靶枪。
技术参数
产品名称 | VTC-600-3HD三靶磁控溅射仪 | |||
产品型号 | VTC-600-3HD | |||
安装条件 | 1、工作台需要：尺寸 L1300mm×W750mm×H700mm，承重 200kg 以上。 2、水：需求：随机标配 KJ-5000 自循环冷水机（加注纯净水或者去离子水）。 3、气：需氩气（纯度≥99.99%），自备氩气瓶（自带Ø6mm 双卡套接头）及减压阀。 4、通风装置：使用现场需通风（必要时可自行加装换气装置）。 5、供电源：单相：AC220V 50Hz 国标 10A 插座，必须有良好接地，前端需加装 16A 空气开关。 6、现场环境：要求：温度 25℃±15℃，湿度 55%Rh±10%Rh 以下，干燥无尘，无易燃易爆气体。 | |||
主要参数 | 真 空 系 统 | 真空室尺寸 | φ295×高 265mm | 备注说明 |
真空泵组 | 分子泵：Hipace80 涡轮泵 前级泵：MVP015-2DC 隔膜泵 | 原装进口浦发（Pfeiffer） | ||
本底真空度 | 5.0E-3Pa(5.0E-5hPa) | 沉积前基础真空要求 | ||
极限真空度 | 5.0E-4Pa(5.0E-6hPa) | 受现场环境等因素影响 | ||
工作压力 | 0.1~5Pa(0.001~0.05hPa) | 氩气为主，反应气体比例添加 | ||
抽速 | 前级泵：1 m³/h 分子泵：67 l/s | 影响抽真空时间 | ||
电 源 配 置 | 溅射电源 类型/数量 | DC（直流）：2台 RF（射频）：1台 | DC：金属靶 RF：绝缘靶 （搭配电源类型可选配） | |
输出功率 范围 | DC：0~500W RF：0~300W | 功率输出模式 MAX输出功率 | ||
匹配阻抗 | 50Ω | 确保功率传输效率 | ||
气 体 控 制 | 工作气体 | 标配：氩气（Ar） | 建议使用：Ar 纯度 99.999% | |
氩气流量 (2路输入） | 1路：1~100sccm 1路：1~200sccm | 注：如需要通入其它类型保 护气体可定制 | ||
流量计精度 | ±1%F.S. | / | ||
旋 转 样 品 台 | 样品台尺寸 | Φ132mm | ≈5.2 英寸 | |
样品台转速 | 1~20rpm | 提升膜厚均匀性 | ||
加热温度 | RT~500℃ | 样品台表面温度值 | ||
控温精度 | ±1℃ | / | ||
磁 控 溅 射 靶 | 磁控靶数量 | 3个 | 可独立、可同时使用 | |
靶材尺寸 | φ2寸 厚度0.1-5mm | 靶材材质不同厚度有所不同 | ||
靶基距 | 85~115mm可调 | 当距离↑增大、→厚膜均匀 性↑增高，沉积速率↓下降。 | ||
冷却方式 | 水冷 | 冷却水循环靶头降温 | ||
沉 积 性 能 与 其 它 参 数 | 厚膜均匀性 | ±5%（φ100mm基片） | 靶基距和转速优化关键 | |
极限膜厚 | 10nm~10um | 过厚易应力开裂 | ||
输入功率 | MAX:主机 1.5KW/射频电源 1.1KW/直流电源0.75KW | 注：主机、射频电源、直流电 源及膜厚仪均为独立供电！ | ||
输入电源 | 单相： AC220V 50/60Hz | |||
主机尺寸 | 600mm×750mm×900mm | 注：开盖高度为1050mm | ||
整机尺寸 | 1300m×750mm×900mm | 注：开盖高度为1050mm | ||
整机重量 | 160kg | 注：不含水冷机组 | ||
标准配件
| 序号 | 名称 | 数量 | 图片链接 |
| 1 | 直流电源控制系统 | 2套 | - |
| 2 | 射频电源控制系统 | 1套 | - |
| 3 | 膜厚监测仪系统 | 1套 | - |
| 4 | 分子泵（德国进口或者国产更大抽速） | 1台 | - |
| 5 | 冷水机 | 1台 | - |
| 6 | 聚酯PU管（Ø6mm） | 4m | - |
可选配件
| 序号 | 名称 | 功能类别 | 图片链接 |
| 1 | 金、铟、银、铂等各种靶材 | （可选） |  - |
| 2 | 可选配强磁靶用于铁磁性材料的溅射镀膜 | （可选） | - |
| 3 | 掩膜版 | （可选） | - |
| 4 | 振动样品台 | （可选） | - |
| 5 | 双层旋转镀膜夹具 | （可选） |  |
VTC-600-3HD三靶磁控溅射仪信息由沈阳科晶自动化设备有限公司为您提供，如您想了解更多关于VTC-600-3HD三靶磁控溅射仪报价、型号、参数等信息，欢迎来电或留言咨询。
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