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VTC-600-1HD单靶磁控溅射仪是我公司自主新研制开发的一款高真空镀膜设备,可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-600-1HD双靶磁控溅射仪配备有一个靶枪,可选择强磁靶或弱磁靶,弱磁靶用于非导电材料的溅射镀膜,强磁靶用于铁磁性材料的溅射镀膜。与同类设备相比,且具有体积小便于操作的优点,且可使用的材料范围广,是一款实验室制备各类材料薄膜的理想设备。
1、可选一个靶枪,配套射频电源用于非导电靶材的溅射镀膜或配套直流电源用于导电性材料的溅射镀膜。2、可制备多种薄膜,应用广泛。3、体积小,操作简便。
1、主机尺寸:500mm×560mm×660mm2、整机尺寸:1300mm×660mm×1200mm3、重量:160kg4、真空室规格:φ300×300mm
VTC-600-1HD单靶磁控溅射仪, VTC-600- 1HD
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VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪
VTC-600-3HD三靶磁控溅射仪
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VTC-200真空旋转涂膜机
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