您好,欢迎您查看分析测试百科网,请问有什么帮助您的?
如果企业客服不在线,也可拨打400电话联系。或者发布求购信息
NIE-3000IBE离子束刻蚀产品概述:该系统为手动放片取片,但通过计算机全自动实现工艺控制的台式离子束刻蚀系统,系统具有结构紧凑、功能强大、自动化程度高、模块化设计易于维护、低成本的优势。
NIE-3000IBE离子束刻蚀产品特点:
· 低成本
· 离子束:高达2KV/10mA
· 离子电流密度100-360uA/cm2
· 离子束直径:4",5",6"
· 兼容反应及非反应气体(Ar, O2, CF4,Cl2)
· 极限真空5x10-7Torr
· 260l/s涡轮分子泵,串接500 l/min干泵
· 14"不锈钢或铝质腔体
· 水冷旋转/倾斜样品台(NIE-3500)
· 自动上下载片(NIE-3500)
· 基于LabView软件的PC计算机全自动控制
· 占地面积30"x30"
产品应用:
· 表面处理
· 离子铣
· 表面清洗
· 带活性气体的离子束刻蚀: 光栅刻蚀,以及SiO2,Si和金属的深槽刻蚀
NIE-3000 IBE离子束刻蚀, NIE-3000
NIE-3000 IBE离子束刻蚀信息由那诺-马斯特中国有限公司为您提供,如您想了解更多关于NIE-3000 IBE离子束刻蚀报价、型号、参数等信息,欢迎来电或留言咨询。
群组论坛--样品前处理
您可能要找:那诺-马斯特电子束刻蚀NIE-3000 IBE离子束刻蚀价格 NIE-3000电子束刻蚀参数
Copyright ©2007 ANTPedia, All Rights Reserved
京ICP备07018254号 京公网安备1101085018 电信与信息服务业务经营许可证:京ICP证110310号