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UX-4系列全自动投影式光刻设备主要运用于大尺寸的LED芯片生产和研发。同时又可以运用于半导体MEMS芯片的新品开发和大批量生产。 特点:*最大限度的提高生产良率。(焦点深度可达±50um)*光刻板和Wafer非接触,光罩板可以反复利用无需对光罩板进行清洗和更换。*最大可对应到8英寸芯片的生产,1:1一次性曝光。*设备利用率可达97%以上*真正意义上的全自动,光罩板无需人工装载。*产品生产切换简易。*焦点深度可达±50um(可有效对芯片应翘曲严重和厚胶工艺) 应用:*LED及半导体MEMS芯片的研发和生产。
USHIO投影式全自动光刻设备-投影式光刻机, UX-4系列
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