VTC-600GD高真空磁控溅射仪

产品简介

VTC-600GD高真空磁控溅射仪是新自主研制开发的镀膜设备，可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-600GD高真空磁控溅射仪至多可选配四个靶枪，配套射频电源用于非导电靶材的溅射镀膜，配套直流电源用于导电性材料的溅射镀膜。与同类设备相比，其不仅应用广泛，且具有体积小便于操作的优点，是一款实验室制备材料薄膜的理想设备，特别适用于实验室研究固态电解质及OLED等。

主要特点

• 至多可选配四个靶枪，配套射频电源用于非导电靶材的溅射镀膜，配套直流电源用于导电性材料的溅射镀膜（靶枪可以根据客户需要任意调换）。

• 可制备多种薄膜，应用广泛。

• 体积小，操作简便。

• 整机模块化设计，真空腔室、真空泵组、控制电源分体式设计，可根据用户实际需要调整。

• 可根据用户实际需要选择电源，可以一个电源控制多个靶枪，也可多个电源单一控制靶枪。

技术参数

标准配件

可选配件

序号	名称	功能类别	图片链接
1	金、铟、银、铂等各种靶材	（可选）	-
2	可选配强磁靶用于铁磁性材料的溅射镀膜	（可选）	-

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