沉积薄膜高度台阶仪

中图仪器NS系列沉积薄膜高度台阶仪能够测量纳米到330μm或1050μm的台阶高度，可以准确测量蚀刻、溅射、SIMS、沉积、旋涂、CMP等工艺期间沉积或去除的材料。

从晶圆膜厚到光刻胶台阶，中图仪器NS系列探针式台阶仪一站式解决微观形貌测量难题。

在半导体、微纳材料及光电子等高精尖领域，微观结构的测量精度直接关乎良率。面对复杂的微米级甚至纳米级特征，您需要一款不仅能测得准，还能测得全的设备。NS系列沉积薄膜高度台阶仪凭借其强大的通用性，覆盖以下核心应用场景：

1.半导体与微电子：无论是晶圆表面的刻蚀深度、光刻胶层厚度，还是IC封装中的Bump高度与TSV深度，均能精准捕捉。

2.微纳材料研发：针对石墨烯等二维材料的极薄厚度测量，以及微流控通道的结构表征，提供亚埃级的分辨率支持。

3.光伏与面板：适用于太阳能电池栅线高度及平板显示器触控点的微观轮廓测量，支持大200mm（8英寸）样品的真空吸附固定，满足工业级检测需求。

无论您的样品是硬质的硅片还是软性的高分子膜，NS系列探针式台阶仪都能助您洞察微观世界的每一个细节。

恳请注意：因市场发展和产品开发的需要，本产品资料中有关内容可能会根据实际情况随时更新或修改，恕不另行通知，不便之处敬请谅解。

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