赛默飞推出iCAP Qc ICP-MS测定高纯氧化钼中Cd等痕量杂质的解决方案

科学服务领域的世界领导者赛默飞世尔科技（以下简称：赛默飞）近日推出iCAPQc ICPMS 测定高纯氧化钼中Cd等痕量杂质的解决方案。钼具有耐高温，低膨胀系数，在合金中添加钼能起到耐热和耐腐蚀作用，并提高合金的强度，用于制造航空和航天的各种高温部件。尤其对于含高钼的镍基合金，除了主合金成份外，对于一些杂质元素的控制将严重影响合金的性能。

氧化钼和钼酸盐是化学和石油工业中的优良催化剂，为保证催化剂的性能也需要对重金属加以严格的控制。但在分析检测过程中，镉的所有同位素都会受到氧化钼的一价多原子离子干扰。

iCAP Qc ICP-MS

本方法将高纯氧化钼溶解于稀氨水中，采用iCAP Qc ICP-MS，分别采用高流量He气碰撞和CCT 氧气反应模式测定，通过Qtegra自动调谐功能，在Qcell加入高流量的氧气反应，将MoO转化为多氧化钼，将干扰质量数进行迁移，与Cd测定同位素分开，从而消除干扰，以满足高纯氧化钼中镉的测定。

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