2019-08-30 00:33:27, 飞飞 赛默飞色谱与质谱分析
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唐聪
电子行业的发展为现代生活提供了极大的便利,电子芯片更是让整个世界远离了单纯依靠人力的时代。掌握了芯片技术,某种程度上讲就是掌握了现代IT技术的基础。而除了厂房硬件,芯片制造还需要不断消耗的基础高纯化学材料。
7月1日日本对韩国进行半导体制造过程核心材料氟化聚酰亚胺、光刻胶、高纯度氟化氢等产品的出口管制,把高纯化工材料的问题推上了浪尖。赛默飞离子色谱,满足半导体级别试剂的检测要求,协助化工企业提高标准。
电子级氢氟酸
Q
在高氢氟酸基体条件下,如何测定痕量的杂质阴离子呢?
A
赛默飞二维离子色谱技术方案,只需轻松两步,即可帮您从容应对这一难题,更被纳入《GBT 31369-2015太阳电池用电子级氢氟酸》中,作为推荐分析监测方案。
高氟基体的去除
(点击查看大图)
上图说明了二维离子色谱对电子级氢氟酸基体去除的原理。电子级氢氟酸中大量的氟离子被吸附在离子排斥柱Dionex IonPac ICE-AS6的Donnan膜上,而其他强酸和中强酸的酸根,则先一步流出离子排斥柱,进入到二维离子分析柱中进行分离和测定。整个过程只用超纯水作为流动相,使得电子级氢氟酸中的高氟基体得到很好地去除。
跑得快的阴离子进入二维色谱柱进行分离
图1 氢氟酸样品溶液的离子色谱图
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而氢氟酸中的氟硅酸,则需在碱性条件下,使其水解并释放出等摩尔的硅酸盐。选用柱后衍生-紫外检测-离子色谱方案,通过对硅酸盐测定,间接测定氟硅酸的含量,消除了高浓度氟离子基体的干扰,并确保其准确定量低至µg/kg级水平。对样品的前处理需求,仅限于稀释,操作简单方便。
图2 氢氟酸样品中氟硅酸测定谱图(点击查看大图)
半导体制造用水和
表面沾污中痕量离子的分析
图3 超纯水在线浓缩富集测定痕量阴离子
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通过淋洗液发生器配合双阀切换在线浓缩装置,淋洗液发生器产生的KOH经过抑制后,产物是水,比碳酸盐体系具有较低的背景电导,所以具有更高的检测灵敏度;而通过在线富集,可以实现超大体积进样,得到更低的检测下限。
电子级硝酸
选用赛默飞高容量阴离子交换色谱柱,只需将样品进行简单稀释后进样,完成高浓度硝酸基体和常见阴离子杂质的分离分析。
(点击查看大图)
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配置上,使用2台Aquion或ICS6000双系统组成的阀切换系统,便可以轻松应对电子级试剂的杂质分析难题。赛默飞独特的“只加水”技术,无需配制淋洗液和抑制器再生液,极简操作;淋洗液电解产生,无空白污染,高重现性,检出限可达ppt级别。
赛默飞离子色谱,让您轻松满足半导体级别试剂的检测要求,助力打造中国“芯”!
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