zeiss g扫描电镜
扫描电镜 SEM 不导电样品需要用 镀金机 离子溅射仪 镀膜仪 喷金仪 进行样品前处理【技术参数】样品室玻璃腔体尺寸120mm ? x 120mm H，高强度不锈钢结构样品台尺寸可放置12个标准钉形样品台，高度可在 30mm内调节蒸镀源高纯度碳棒，直径6.15mm蒸镀控制系统微处理器控制，远程电流/电压感应；最大电流180A，程序化数字控制；提供真......
Phenom台式扫描电镜大样品室版Phenom XL G2可以用在多个行业领域，用来检测扫描电镜,台式电镜,台式扫描电镜,桌面扫描电镜,场发射电镜，可完成自动化项目。符合多项行业标准飞纳电镜。 研究人员通过分析哪些重复的步骤耗费时间最久，且存在较大的人为误差风险，就能确定哪一个流程可以通过自动化来替代。根据具体的工作流程，可以选择不同的自动化程度。 Phen......
【技术参数】样品间玻璃腔体尺寸120mm×120mmH，高强度不锈钢结构样品台尺寸可放置12个标准钉形样品台，可在30mm内调节蒸镀源高纯度碳棒，直径6.15mm，蒸镀控制系统微处理器控制，远程电流/电压感应，最大电流180A，程序化数字控制，提供真空安全联锁装置，过流保护，模拟计量真空Atm-0.001mb，电流:0–200A控制方式自动蒸镀控制，可选择手......
【技术参数】样品室玻璃腔体尺寸为120mm x 120mmH，样品台为高强度不锈钢结构，可容纳12个标准钉形样品台，高度可在30mm内调节。蒸镀源为高纯度碳棒，直径为6.15mm。蒸镀控制系统采用微处理器控制，可以实现远程电流/电压感应，最大电流为180A。此外，系统还提供真空安全联锁装置和过流保护。真空范围为Atm-0.001mb，电流范围为0–200A。......
【技术参数】样品室玻璃腔体尺寸为120mm×120mmH，采用高强度不锈钢结构（也可选150mm×165mm）。样品台尺寸可容纳12个标准钉形样品台，高度可在60mm内调节。溅射头为低电压平面磁控管，靶材更换快速。可使用直径为57mm×0.1mm厚度的溅射靶材，如环绕暗区护罩溅射的金、铂、金/钯、铂/钯、银等靶材。溅射控制系统采用微处理器控制，可以远程感应电......
全新的易学界面能够帮助您快速获取信息，适用于各种应用。PhenomXLG2台式扫描电镜大样品室版已升级为全面屏成像，平均成像时间仅40秒，比市场上其他台式电镜速度快5倍。系统可对100x100mm的样品进行分析，8nm的分辨率为分析提供更多细节。PhenomXLG2标配四分割背散射电子探头（BSD），提供高品质图像和成分衬度信息。PhenomXLG2也可选择......
全新的易于学习的界面可以帮助您快速了解信息，是各种应用的最佳选择。PhenomXLG2台式扫描电镜大样品室版现已升级为全面屏成像，平均成像时间仅为40秒，比市场上其他台式电镜快五倍。系统可对100x100mm的样品进行分析，8nm的分辨率提供更多细节。PhenomXLG2标配四分割背散射电子探头（BSD），提供高品质图像和成分衬度信息。此外，PhenomXL......
飞纳公司推出了第二代PhenomPharosG2台式场发射扫描电镜，具有出色的性能优势。该电子显微镜集成了背散射电子成像、二次电子成像和能谱分析功能。配备高亮度的肖特基场发射电子源，用户可以轻松获取高分辨率图像，并且在低电压下表现优异。PhenomPharosG2的低电压成像优势非常明显，减轻了电子束对样品的损伤，并且更好地观测绝缘和电子束敏感的样品，实现了......
PhenomPharosG2是一款性能优越的飞纳台式场发射扫描电镜，荷兰飞纳公司推出了第二代肖特基场发射电子源台式扫描电镜PhenomPharosG2，集成了背散射电子成像、二次电子成像和能谱分析功能。高亮度的肖特基场发射电子源使用户可以轻松获得高分辨率图像，尤其是在低电压下表现优异。PhenomPharosG2的低电压成像优势明显，可以减轻电子束对样品的损......
飞纳公司推出了性能优越的PhenomPharosG2台式场发射扫描电镜，是第二代肖特基场发射电子源台式扫描电镜。PharosG2集成了背散射电子成像、二次电子成像和能谱分析功能，采用高亮度肖特基场发射电子源，可轻松获得高分辨率图像并具有低电压性能优势。该电镜的低电压成像优势明显，可以减轻电子束对样品的损伤和穿透，更好地观测绝缘和电子束敏感的样品，并还原样品真......