激光直写光刻技术
小型台式无掩膜光刻系统 小型台式无掩膜光刻系统Microwriter ML3是英国Durham Magneto Optics公司专为实验室设计开发，为微流控、SAW、半导体、自旋电子学等研究领域提供方便高效的微加工方案。 传统的光刻工艺中所使用的铬玻璃掩膜板需要由专业供应商提供，但是在研发环境中，掩膜板的设计通常需......
EXCITE 系列尺寸较SLM 系列为小，提供266nm - 1064nm 单频纳秒脉冲激光。紧凑型单纵模激光器EXCITE典型应用：• Wafer 检测• 光致发光• 干涉测量• 拉曼光谱• 光纤布拉格光栅（FBG）制造• 光谱仪校准• 计量学• 全息• 干涉直写紧凑型单纵模激光器EXCITE选型表德国Xiton Photonics 专注于窄线宽固体脉......
四轴飞秒激光直写系统Spearay-4Axis 系统是针对管状材料精密切割设计的，利用一维高精度旋转轴、两维扫描振 镜、三维XYZ 精密定位系统，结合超快激光微加工特点，能够实现薄壁管材的精密切割、保持表面完整性的表面标刻、和功能性超表面处理。 主要应用• 心血管支架加工• 玻璃管等管状样品切割• 柱状曲面加工配置参数：• 扫描振镜（用于激光划切）......
Quantum Design电子束刻蚀Microwriter ML3用于测定MoS2、Cr2S3，符合行业标准High-Performance Wafer-Scale MoS2 Transistors toward Practical Application. Small 2018, 1803465。适用无掩膜光刻直写项目。 小型台式无掩膜光刻系统&nbs......
Quantum Design小型台式无掩膜光刻机Microwriter ML3用于测定MoS2、Cr2S3，符合行业标准High-Performance Wafer-Scale MoS2 Transistors toward Practical Application. Small 2018, 1803465。适用无掩膜光刻直写项目。 小型台式无掩膜光刻系......
Phenom台式扫描电子显微镜标准版Pure Phenom pure参考多项行业标准http://www.phenom-china.com/blog/details.aspx?id=45。完成光刻胶材料的检测。可以用在多个行业领域中的激光直写技术制造光子设备项目。 光子设备被广泛应用于自然科学中，用于制造，操作和探测光。在未来，制造先进的光子设备将是一种挑战......
桌面µMLA系统是基于著名的µPG平台构建的最先进的无掩模技术，该平台是全球最畅销的桌面无掩模系统。它是一个完美的入门级研发工具，几乎适用于任何需要微结构的应用。典型的例子是微流体（细胞分选设备、芯片实验室）、小规模掩模写入、微光学和微透镜阵列、传感器、MEMS、接触式2D材料和扇出电极等。µMLA是一种灵活且可定制的工具，提供两种曝光模式。标准µMLA使用......
DWL 66+激光光刻工具是一款高分辨率直写图案生成器。作为一款全能型产品，DWL 66+非常适合微电子、MEMS、微流体、传感器、非标准基板、先进封装等领域的研发，几乎适用于任何需要微结构制造的学术应用。DWL 66+以其灰度曝光模式脱颖而出，该模式可创建复杂的2.5D微结构，如移动应用的微光学、衍射光学元件（DOE）、计算机生成的全息图和结构化表面。它是......
ZML系列无掩膜光刻机机型多样化高效、灵活、高分辨率和高套刻精度特征尺寸0.5μm | 高精度步进光刻 泽攸科技 ZML 系列 DMD 无掩膜光刻机，采用先进数字微镜直写技术，无需传统掩膜版即可灵活完成任意微纳图形的精准曝光，加工精度出色、成像稳定。设备采用紧凑设计，搭配智能自动对焦与直观操作系统，上手简单、使用高效，能大幅缩短研发周期、降低制版成......