crossbeam 340
德国ZEISS蔡司聚焦离子束扫描电镜FIB/SEM 在蔡司Crossbeam系列中，您可选择Crossbeam 350或者Crossbeam 550，来满足您急需的表征应用，您还可选择不同的样品仓尺寸从而更好的兼容您的样品。 ......
[ 产品简介 ]蔡司双束电镜Crossbeam系列，是专为高通量3D分析和样品加工制备量身打造的FIB-SEM双束电镜。该系列将场发射扫描电子显微镜(FE-SEM)镜筒强大的成像和分析性能与全新一代聚焦离子束(FIB)镜筒出色的加工能力相结合。无论是加工、成像或进行3D分析，都能在不损失精度的前提下，提高聚焦离子束的应用效率。模块化的平台概念可以进行后续系统......
[ 产品特点 ]1. 低能着陆电压下获得高分辨率图像2. 可实现大尺寸到纳米精度的切割3. 批量自动制备TEM薄片样品4. Atlas 5可创建多尺度、多模式综合图像5. ToF-SIMS 实现高通量3D成份分析6. 特别设计的无漏磁镜筒7. 不导电样品不受荷电效应影响8. 加装飞秒激光模块，实现亚毫米级快速加工，同时有效避免腔室污染 [ 产品详情......
[ 产品特点 ]1. 低能着陆电压下获得高分辨率图像2. 可实现大尺寸到纳米精度的切割3. 批量自动制备TEM薄片样品4. Atlas 5可创建多尺度、多模式综合图像5. ToF-SIMS 实现高通量3D成份分析6. 特别设计的无漏磁镜筒7. 不导电样品不受荷电效应影响8. 加装飞秒激光模块，实现亚毫米级快速加工，同时有效避免腔室污染 [ 应用领域......
[ 应用领域 ]1. 生命科学，如断层扫描，三维重构2. 电池领域，如原子层组分表征3. 半导体领域，如失效分析，电路修复4. 金属领域，如界面分析，亚表面分析5. 材料科学，如晶体微观结构分析，纳米图形化加工6. 透射电镜、EBSD、微观力学等多种样品的原位制备7. 微纳加工[ 产品详情 ]蔡司Crossbeam系列聚焦离子束扫描电镜将场发射扫描电镜（FE......
蔡司 arivis [软件简介]蔡司 arivis 通过其四款产品：arivis Pro、 rivis Pro VR、arivis Hub、arivis Cloud，助您在本地端、VR端、服务器端、以及云端实现可拓展的自动化的图像分析流程。借助传统方式或人工智能模型，可轻松创建适用于从2D到5D的图像分析流程。该软件支持并精于处理超过6......
蔡司双束电镜 Crossbeam 550 Samplefab[产品简介]蔡司双束电镜 Crossbeam 550 Samplefab，作为一款专为半导体行业TEM样品制备开发的高端聚焦离子束扫描电子显微镜（FIB-SEM），提供优异的灵活性、自动化功能和用户友好设计，帮助半导体行业的样品制备更加简便高效。 [产品特点]l 行业标准软件界......
[ 产品特点 ]ü “强” 表征：Gemini 系统加持，成像媲美高端场发射电镜，样品兼容性强ü “快” 制备：搭配高通量离子枪，快速完成亚表面结构截面制备与表征ü “易” TEM：自动化流程 + 易用软件，简化高质量 TEM 薄片制备[ 应用领域 ]ü 先进材料ü 金属ü 新能源ü&n......
[ 产品简介 ]蔡司 Crossbeam 750 专为高质量失效分析与高精准TEM制样量身打造。三大核心技术：全新的Gemini 4电子光学系统、升级的“HDR”实时观察技术、全面革新的控制软件，可以为您带来更稳定、更准确、更高效的设备使用体验，是先进制程半导体领域的新选择。 [ 产品特点 ]√超高分辨：全新的 Gemini 4电子光学系统√实时成......
蔡司Crossbeam系列轻松发现和设计先进材料使用蔡司Crossbeam使您在三维纳米分析流程中获益将场发射电子显微镜的成像与分析能力与聚焦离子束的加工能力结合。无论是刻蚀，成像或做三维分析，Crossbeam将提高聚焦离子束的应用速率。通过新的能谱模块实现大部分的三维成分分析工作。您可自主选择使用蔡司 Crossbeam 340的可变气压功能，或者使用C......