工业设计 光刻机

小型台式无掩膜光刻系统 小型台式无掩膜光刻系统Microwriter ML3是英国Durham Magneto Optics公司专为实验室设计开发,为微流控、SAW、半导体、自旋电子学等研究领域提供方便高效的微加工方案。   传统的光刻工艺中所使用的铬玻璃掩膜板需要由专业供应商提供,但是在研发环境中,掩膜板的设计通常需......

布鲁克nanoElute纳升流液相色谱 具有直观灵活的用户界面的高性能的色谱系统精准分析优质的液相色谱-质谱( LC-MS )数据来源于稳定的纳升级分离系统nanoElute®液相色谱系统高性能可靠的高性能纳升 ESI-MS 分析一致性多个系统和跨越不同实验室都能得到可靠结果严密性确定的实验流程和自动化操作,贯穿整个实验阶段,提供易于使用的界面。利......

电导率传感器的作用就是构造一个稳定合理的电导池结构,并且在批量生产的过程中具有极好的一致性,以减少甚至消除探头生产所带来的标定成本。除了结构尺寸上的一致性要求外,传感器在液体中长期浸泡并参与反应,因此电极材料的选择也至关重要。 温度会明显影响液体的导电能力。液体导电需要借助离子运动完成,与金属不同,液体的导电能力随着温度的升高而增强。对于不同液体,......

DMD无掩膜光刻机

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昊量光电 光学仪器组件

型号:Aunion_Maskless_Photo_Lithography_PALET

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产品简介 DMD无掩膜光刻机高速、广范围、低价格DMD式无掩膜光刻机! AU-PALET光刻机是一款紧凑的DMD式无掩膜光刻机拥有高速、广范围、低价格、高分辨率、操作简单和可靠性高等特点。DMD式无掩膜光刻机无需制造掩膜,采用DMD数字掩膜,可在抗蚀剂内曝光所希望的任意图案。无掩膜光刻机可以读取任何CAD数据,除此之外DMD式无掩膜光刻机......

DMD无掩模光刻机 DMD无掩模光刻机 SmartPrint UV SystemDMD无掩模光刻机SMART PRINT UV是一种基于DMD投影技术的无掩模光刻设备,可兼容多种光刻胶和基材。SMART PRINT UV可以生产任何微米分辨率的二维形状,而不需要硬掩模。基于改进后的标准投影技术,投影出具有微米分辨率的图......

光刻机

参考成交价格: 暂无

半导体专用检测仪器设备

型号:MODEL 800MBA

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美国OAI成立至今已有35年历史,在光源制造和测量方面一直处于世界领先领域。 OAI光源以工作稳定,出光效率高,高均匀性和散射角小著称。且可提供20inch以上的大面积光源。 OAI光功率计在工业上有广泛应用,包括NIKON,CANON,ASM等知名光刻机制造商均使用OAI光功率计。 OAI也生产光刻机,尤其是OAI MODEL 800系列双......

光刻机

参考成交价格: 暂无

其它

型号:MAs

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仪器简介:又名:掩膜对准曝光机,曝光系统,光刻系统,光刻机等; 全球领先的半导体设备供应商,多年来致力于掩膜对准光刻机和匀胶机研发与生产,并且广泛应用于半导体、微电子、生物器件和纳米科技领域;该公司是目前世界上zei早将光刻机商品化的公司之一,拥有雄厚的技术研发力量和设备生产能力;并且其设备被众多著名企业、研发中心、研究所和高校所采用;依优秀的......

仪器简介: 又名:掩膜对准曝光机,曝光系统,光刻系统,光刻机等 全球领先的半导体设备供应商,多年来致力于掩膜对准光刻机和匀胶机研发与生产,并且广泛应用于半导体、微电子、生物器件和纳米科技领域;该公司是目前世界上zei早将光刻机商品化的公司之一,拥有雄厚的技术研发力量和设备生产能力;并且其设备被众多著名企业、研发中心、研究所和高校所采......

光刻机又名:掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统,光刻机,紫外曝光机等;ECOPIA为全球领先的半导体设备供应商,多年来致力于掩模对准光刻机和匀胶机研发与生产,并且广泛应用于半导体、微电子、生物器件和纳米科技领域;该公司是目前世界上最早将光刻机商品化的公司之一,拥有雄厚的技术研发力量和设备生产能力;并且其设备被众多著名企业、研发中心、研究所和高校所采用;以优秀......

北京谛赛恩工业设计有限公司是北京知名的工业设计机构,专业从事各类工业产品的设计咨询、设计调研、外观设计(造型设计)、结构设计、手板样机制作、模具开发及企业标识(LOGO)设计等业务。其中在医疗器械、仪器仪表、电子通讯、工业设备等产品的新型研发和改观设计方面有着较强的设计能力和丰富的经验,成功地为一大批中小企业提供了完善的服务;在企业标识(LOGO)设计方面也......

厂商新闻
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