光刻系统检测仪器
JBX-6300FS 电子束光刻系统JBX-6300FS的电子光学系统在100kV的加速电压下能自动调整直径为（计算值）2.1nm的电子束，简便地描画出线宽在8nm以下（实际可达5nm）的图形。 此外，该光刻系统还实现了9nm以下的场拼接精度和套刻精度，性能比优越。 利用zei细电子束束斑（实测值直径≦2.9nm）可以描画8nm以下(实际可达5nm)极为精细......
JBX-9500FS 电子束光刻系统JBX-9500FS是一款100kV圆形束电子束光刻系统，兼具世界zei高水平的产出量和定位精度，zei大能容纳300mmφ的晶圆片和6英寸的掩模版，适合纳米压印、光子器件、通信设备等多个领域的研发及生产。产品特点：JBX-9500FS是一款100kV圆形束电子束光刻系统，兼具世界zei高水平的产出量和定位精度，zei大能......
JBX-3200MV 电子束光刻系统JBX-3200MV是用于制作28nm～22/20nm节点的掩模版/中间掩模版（mask/reticle）的可变矩形电子束光刻系统。 zei先进的技术实现了高速、高精度和高可靠性。 是基于加速电压50 kV的可变矩形电子束和步进重复式的光刻系统｡产品特点：JBX-3200MV是用于制作28nm～22/20nm节点的掩模版/......
JBX-3050MV 电子束光刻系统JBX-3050MV 是用于制作45nm～32nm 节点的掩模版/中间掩模版（mask/reticle）的可变矩形电子束光刻系统。 zei先进的技术实现了高速、高精度和高可靠性。 是基于加速电压50 kV的可变矩形电子束和步进重复式的光刻系统｡产品特点：JBX-3050MV 是用于制作45nm～32nm 节点的掩模版/中间......
JBX-8100FS 圆形电子束光刻系统zei新高精密JBX-8100FS圆形电子束光刻系统，通过全方位的设计优化，实现更简便的操作，更快的刻写速度，更小的占地面积和安装空间，并且更加绿色节能。产品特点：zei新高精密JBX-8100FS圆形电子束光刻系统，通过全方位的设计优化，实现更简便的操作，更快的刻写速度，更小的占地面积和安装空间，并且更加绿色节能。◇......
沃特世Waters 科学信息系统UNIFI可以用在临床血液与检验学行业领域，用来检测人体血浆，可完成氯吡格雷项目。符合多项行业标准。 简介 色谱、质谱、数据管理和实验室工作流程的一体化平台沃特世UNIFI科学信息系统平台突破性地将LC与高性能MS数据（四极杆和飞行时间质谱）融合入一套解决方案中，数据采集、处理、浏览、报告生成和可配置的法规依从性工......
产品规格：拼接精度≦±3.8 nm套刻精度≦±7 nmJBX-3050MV 电子束光刻系统JBX-3050MV 是用于制作45nm～32nm 节点的掩模版/中间掩模版（mask/reticle）的可变矩形电子束光刻系统。 zei先进的技术实现了高速、高精度和高可靠性。 是基于加速电压50 kV的可变矩形电子束和步进重复式的光刻系统｡产品特点：是基于加速电压5......
中文名：Aldrich® 负光刻胶套装 I英文名：Aldrich® Negative Photoresist Kit I货号：A487434存储温度：2-8°C储存产品介绍：Aldrich®负性光致抗蚀剂套装I由用于光蚀刻的材料组成。该光致抗蚀剂可旋涂于玻璃基质上以形成电极阵列。该套装还可用于在玻璃表面上进行掩膜和成像。应用查看阿拉丁官网此产品相关对应页面：......
四方仪器 光刻腔氧分析仪 Gasboard-3052光刻腔氧分析仪Gasboard-3052基于极限电流型氧化锆传感器技术，实现工业过程中ppm级别氧浓度的测量，具有测量精度高、响应速度快、稳定性好等特点，可应用于半导体制造、空气分离、惰性气体焊接等领域，为关键的过程控制应用程序提供可靠的性能。产品采用紧凑型模块化设计，体积小巧，便于在复杂工况下安装，同时配......