日立高新+光谱仪
追求理想的三维结构分析通过自动重复使用FIB制备截面和进行SEM观察，采集一系列连续截面图像，并重构特定微区的三维结构。采用最理想的镜筒布局，从先进材料、先进设备到生物组织——在宽广的领域范围内实现传统机型难以企及的高精度三维结构分析。特点SEM镜筒与FIB镜筒互成直角，形成三维结构分析最理想的镜筒布局融合高亮度冷场发射电子枪与高灵敏度检测系统，从磁性材料到......
日立高新磁控溅射器（Hitachi Ion Sputter )MC1000采用了电磁管电极，能够最大限度地减轻对样品的损坏，并在样品表面涂覆一层均匀粒子。适用于高分辨率的扫描式电子显微镜。日立高新磁控溅射器（Hitachi Ion Sputter )MC1000的最大样品直径：60 mm日立高新磁控溅射器（Hitachi Ion Sputter ......
新品详情 上市时间：2012年11月 创新点:高画质的钨灯丝扫描电镜, 图象质量更进一步。 通过高画质提升扫描电镜的分析能力和操作性, 凝聚日立zei先进科技“独具匠心”。日立高新钨灯丝扫描电镜SU3500具有实现了“3kV加速电压7nm分辨率”的全新电子光学系统, 可实现实时立体成像的“实时立体观察功能”＊1, 以及更高检......
日立高新磁控溅射器（Hitachi Ion Sputter )MC1000采用了电磁管电极，能够最大限度地减轻对样品的损坏，并在样品表面涂覆一层均匀粒子。适用于高分辨率的扫描式电子显微镜。日立高新磁控溅射器（Hitachi Ion Sputter )MC1000的最大样品直径：60 mm日立高新磁控溅射器（Hitachi Ion Sputter )MC100......
日立高新离子研磨装置IM4000（HITACHI Ion Milling System IM4000 ）具有断面加工和平面研磨功能的混合仪器！ 日立高新离子研磨装置IM4000（HITACHI Ion Milling System IM4000 ）的混合模式带有两种研磨配置： 断面加工：将样品断面研磨光滑，便于表面以下结......
“先进的SEM更为紧凑”宽幅仅为45 cm的紧凑型的设计，仍具备4.0 nm的图像分辨率。全新开发的用户界面和电子光学系统让您深切体验其高性能。特点FlexSEM 1000 II，凭借全新设计的电子光学系统和高灵敏度检测器，可在加速电压20 kV下实现4.0 nm的分辨率。全新开发的用户界面，具有亮度和对焦自动调节功能，可以在短时间内进行各种观察。此外，还搭......
高性价比的金属分析OE720是突破性的OES金属分析仪。其涵盖了金属*元素的全部光谱，并具有同类产品中较低的检出限。由于行业法规日益严格，供应链变得复杂以及更多地使用废料作为基础材料，因此铸造厂和金属制造商必须将杂质和痕量元素控制在很低的ppm范围内。在过去，这一级别的OES对许多企业而言是遥不可及。日立分析仪器推出的OE系列可改变这一现状。日立直读光谱仪可......
日立高新推出的扫描电镜SU3800/SU3900兼具操作性和扩展性，结合众多的自动化功能，可高效发挥其高性能。SU3900标配多功能超大样品仓，可应对大型样品的观察。产品特征SU3900标配多功能超大样品仓，可应对大型样品的观察（1）样品台可搭载超大/超重样品• 通过更换样品提示，可防止由于与样品的接触而损坏设备或样品• 选配样品交换仓，可在主样品仓保持真空......
简介日立高新磁控溅射器(MC1000)采用电磁管电极，能有效减轻对样品的损伤并实现均匀涂覆，适用于高分辨率扫描式电子显微镜。设备支持最大样品直径60mm，高度20mm，配备LCD触摸屏便于操作，具备记忆功能存储常用条件，并可选配处理较大样品的配件。 日立高新磁控溅射器（Hitachi Ion Sputter )MC1000采用了电磁......
核心参数仪器种类：台式/桌面型电子枪种类：钨灯丝二次电子图象分辨率：4.0 nm @ 20 kV （高真空模式），15.0 nm @ 1 kV （高真空模式）放大倍数：6× ～ 300,000× （底片倍率），16× ～ 800,000× （显示倍率）加速电压：0.3 kV ～ 20 kV背散射电子图像分辨率：5.0 nm @ 20 kV （低真空模式 ）简......