离子研磨抛光
GPX模式配置符合您的实验室的要求，配置不同选项，拓展多样化，总有一款适合您。一体式铝铸件的设计保证了最苛刻的环境中的刚性，而其紧凑的外形设计，足以容纳在最小的实验室。一个触摸按键和一步一步的应用指南选择允许您选择预先确定的方法，和无限数量的客户设计的应用程序可以输入和存储。特征先进的碗形/排水设计特点实现自动碗冲洗更容易清理8-10英寸 (200 to 2......
SEM 样品制备的理想工具 SEMPrep2 作为新一代的高精密氩离子研磨系统，可以满足研究人员最苛刻的研磨需求。集成式多功能截面抛削以及无损平面抛光系统，为 SEM 以及 EBSD 用户提供最好的制样助力。智能便捷的使用体验先进的操作界面提供了从初学者到专家用户的最佳操作模式。并且 SEMPrep2 提供了全自动的预设参数，使得用户可以一键进行几......
徕卡德国 离子研磨仪 EM TIC 3XLeica EM TIC 3X用于测定太阳能电池，符合行业标准。适用截面结构项目。 方案摘要 三离子束切割仪 Leica EM TIC 3X几乎任何材质样品都可获得高质量截面，在没有任何变形或损伤的情况下揭开样品内部zei真实结构信息，在使用徕卡EM TIC3X之前，这类工作从未变得如此之简单。徕卡EM TIC 3X三......
徕卡抛光机Leica EM TIC 3X可以用在煤炭行业领域，用来检测太阳能电池，可完成截面结构项目。符合多项行业标准。 方案摘要 三离子束（分别独立控制），冷冻样品台及多样品台，确保离子束对样品处理高效，切割区域宽且深，从而获得高质量截面切割结果。为您带来的优势顶级性能独特的三离子束系统，可获得zei佳的截面处理质量，并可高效获得宽且深的切割区域，大大降低......
徕卡德国 离子研磨仪 EM TIC 3XLeica EM TIC 3X用于测定半导体芯片，符合行业标准。适用截面结构项目。 1.独特的三离子束系统，可获得最佳的截面处理质量，并可高效获得宽且深的切割区域，大大降低工作时间。并可实现在一次处理过程中最多处理3个样品。因此对有高通量需求的实验室，徕卡EM TIC 3X是最佳解决方案。 三离子束（分别独......
德国 离子研磨仪 EM TIC 3X抛光机徕卡 应用于其他生命科学有特定规范与标准，应用于其他生命科学行业领域。点击查看相关规范标准。 徕卡电镜制样流程 Leica Vienna -Since 1876 三离子束切割仪 Leica EM TIC 3X几乎任何材质样品都可获得高质量截面，在没有任何变形或损伤的情况下揭开样品内部zei真实结构信息，在使用徕卡EM......
点击查看下载徕卡德国 离子研磨仪 EM TIC 3X抛光机 三离子束切割仪产品单页相关资料，进一步了解产品。 徕卡Leica EM TIC 3X可通过离子束侧面轰击样品，获得高质量无应力“切割”截面，以便于SEM观察，及EDX或EBSD等分析。并可对样品进行离子束平面抛光，抛光面积达25mm。Leica EM TIC 3X适用于多层膜材料、软硬复合材料，金属......
点击查看下载抛光机德国 离子研磨仪 EM TIC 3X徕卡 样本相关资料，进一步了解产品。 徕卡Leica EM TIC 3X可通过离子束侧面轰击样品，获得高质量无应力“切割”截面，以便于SEM观察，及EDX或EBSD等分析。并可对样品进行离子束平面抛光，抛光面积达25mm。Leica EM TIC 3X适用于多层膜材料、软硬复合材料，金属、陶瓷、地质等各种......
Qpol 30是一款便携式的手动磨抛机。 优点便携式研磨抛光装置两个微电机的控制单元通过减速齿轮增加扭矩完美研磨 - QATM 的耗材如果使用正确的方法：知识、细心以及正确选择耗材和设备，研磨就会更加可靠、安全和高效。研磨抛光机 Qpol 30技术参数转速1000-40,000rpm，连续可调磨盘直径30 mm电压要求230 V / 50-60 H......
以最大化的可靠性制备大批量样品： Qpol XL是一款坚固、动力强劲的设备，具有独一无二的材料去除性能和优异的制样效果。拥有极为稳定的机体和磨抛头，这款设备是QATM立式磨抛机系列的成员之一。集成的力值传感器和创新的电子力控制可实现定量材料去除及超高的过程可靠性。直观的软件中可储存多达200个制备方法，并可进行专业的用户权限管理。优点工作盘直径300/350......