电子枪原理
BS/JEBG/EBG 系列电子枪用于光学薄膜及电极膜等各种薄膜形成的电子束蒸镀用电子枪/电源。产品特点：用于光学薄膜及电极膜等各种薄膜形成的电子束蒸镀用电子枪/电源。电子束蒸镀法的特征用电子束直接照射镀膜材料进行加热，因此热效率高，能蒸发高熔点金属、氧化物、化合物、升华性物质等各种材料。镀膜材料在水冷铜坩埚内(*)被直接加热，因此不会象电阻加热式或感应加热......
JEBG系列大功率电子枪/电源JEBG系列大功率电子枪是在真空中蒸发或熔解金属及氧化物的大功率电子束发生源，能在不断输送中的宽幅塑料和大面积玻璃基板上高速率地连续镀膜，此外在电子束熔炼时，可用于高熔点金属锭的生产及提纯。产品特点：JEBG系列大功率电子枪是在真空中蒸发或熔解金属及氧化物的大功率电子束发生源，能在不断输送中的宽幅塑料和大面积玻璃基板上高速率地连......
JEBG 系列大功率电子枪・电源JEBG系列大功率电子枪是用来在真空中蒸发或熔解金属及氧化物的大功率电子束发生源，能在宽幅塑料及大面积玻璃基板上持续、高速率地镀膜，还可应用于电子束熔炼，用于高熔点金属铸锭的制备及精炼。产品特点：JEBG系列大功率电子枪是用来在真空中蒸发或熔解金属及氧化物的大功率电子束发生源，能在宽幅塑料及大面积玻璃基板上持续、高速率地镀膜，......
JEBG 系列大功率电子枪・电源JEBG系列大功率电子枪是用来在真空中蒸发或熔解金属及氧化物的大功率电子束发生源，能在宽幅塑料及大面积玻璃基板上持续、高速率地镀膜，还可应用于电子束熔炼，用于高熔点金属铸锭的制备及精炼。产品特点：JEBG系列大功率电子枪是用来在真空中蒸发或熔解金属及氧化物的大功率电子束发生源，能在宽幅塑料及大面积玻璃基板上持续、高速率地镀膜，......
用途真空蒸镀阻隔膜、保护膜、电极膜、导电膜、磁性膜等薄膜的形成。真空熔解Ti、Ta、Nb、 Mo等高熔点金属铸锭的制备及精炼。提炼太阳能电池的多晶硅产品规格：型号EBG-300UAJEBG-1000UBJEBG-3000UBzei大输出功率30kW100kW300kW(20kV, 1.5A)(30kV, 3.4A)(40kV, 7.5A)zei大偏转角Max......
JEBG 系列大功率电子枪・电源JEBG系列大功率电子枪是用来在真空中蒸发或熔解金属及氧化物的大功率电子束发生源，能在宽幅塑料及大面积玻璃基板上持续、高速率地镀膜，还可应用于电子束熔炼，用于高熔点金属铸锭的制备及精炼。产品特点：JEBG系列大功率电子枪是用来在真空中蒸发或熔解金属及氧化物的大功率电子束发生源，能在宽幅塑料及大面积玻璃基板上持续、高速率地镀膜，......
JEBG系列大功率电子枪/电源JEBG系列大功率电子枪是在真空中蒸发或熔解金属及氧化物的大功率电子束发生源，能在不断输送中的宽幅塑料和大面积玻璃基板上高速率地连续镀膜，此外在电子束熔炼时，可用于高熔点金属锭的生产及提纯。产品特点：JEBG系列大功率电子枪是在真空中蒸发或熔解金属及氧化物的大功率电子束发生源，能在不断输送中的宽幅塑料和大面积玻璃基板上高速率地连......
产品特点：JEBG系列大功率电子枪是在真空中蒸发或熔解金属及氧化物的大功率电子束发生源，能在不断输送中的宽幅塑料和大面积玻璃基板上高速率地连续镀膜，此外在电子束熔炼时，可用于高熔点金属锭的生产及提纯。电子束能大范围地快速扫描，通过专用の控制装置和软件，能生成各种电子束照射图形和区域。由于能够在各个照射位置上设定扫描、停留时间、输出功率及电子束形状，因而能够控......
产品特点：电子束能大范围地快速扫描，通过专用の控制装置和软件，能生成各种电子束照射图形和区域。由于能够在各个照射位置上设定扫描、停留时间、输出功率及电子束形状，因而能够控制熔融面和膜厚分布。JEBG系列大功率电子枪是在真空中蒸发或熔解金属及氧化物的大功率电子束发生源，能在不断输送中的宽幅塑料和大面积玻璃基板上高速率地连续镀膜，此外在电子束熔炼时，可用于高熔点......
BS/JEBG/EBG 系列电子枪用于光学薄膜及电极膜等各种薄膜形成的电子束蒸镀用电子枪/电源。产品特点：用于光学薄膜及电极膜等各种薄膜形成的电子束蒸镀用电子枪/电源。电子束蒸镀法的特征用电子束直接照射镀膜材料进行加热，因此热效率高，能蒸发高熔点金属、氧化物、化合物、升华性物质等各种材料。镀膜材料在水冷铜坩埚内(*)被直接加热，因此不会象电阻加热式或感应加热......