高压气体吸附分析仪使用的静态容量法,利用氢气,甲烷和二氧化碳等气体获得高压吸附和脱附等温线。容量法技术引入一定量的已知气体(吸附剂)到含有待测样品的分析室中,当样品与吸附气体达到平衡时,记录zui终的平衡压力。这些数据用来计算样品吸附气体的量。在设定的压力间隔内重复这个过程,直到达到预选的最大压力。然后压力减少,提供脱等温线,每个平衡点(吸附量和平衡压力)可......
堀场HORIBAHORIBA Plus研究级经典型椭偏仪UVISEL 用于测定非晶碳薄膜,符合行业标准0。适用厚度,光学常数项目。 仪器简介: 椭圆偏振光谱是一种无损无接触的光学测量技术,基于测量线偏振光经过薄膜样品反射后偏振状态发生的改变,通过模型拟合后得到薄膜、界面和表面粗糙层的厚度以及光学性质等等,可测厚度范围为几埃至几十微米......
堀场HORIBA椭偏仪UVISEL 适用于厚度,光学常数项目,参考多项行业标准0。可以检测PDP等离子体显示屏等样品。可应用于电子/半导体行业领域。 技术参数: * 光谱范围: 190-885 nm(可扩展至2100nm) * ......
堀场HORIBAHORIBA Plus研究级经典型椭偏仪UVISEL 用于测定TFT和LTPSTFT-LCD显示器,符合行业标准0。适用厚度,光学常数项目。 技术参数: * 光谱范围: 190-885 nm(可扩展至2100nm) *&n......
堀场HORIBA椭偏仪UVISEL 用于测定TiO2薄膜和多层减反膜,符合行业标准0。适用厚度,光学常数项目。 仪器简介: 椭圆偏振光谱是一种无损无接触的光学测量技术,基于测量线偏振光经过薄膜样品反射后偏振状态发生的改变,通过模型拟合后得到薄膜、界面和表面粗糙层的厚度以及光学性质等等,可测厚度范围为几埃至几十微米。此外,还可以测试材......
堀场HORIBAHORIBA Plus研究级经典型椭偏仪UVISEL 可以用在涂料行业领域,用来检测玻璃和预蒸镀基底,可完成光学常数项目。符合多项行业标准0。 技术参数: * 光谱范围: 190-885 nm(可扩展至2100nm) *&......
堀场HORIBA椭偏仪UVISEL 可用于测定有机半导体,适用于光学常数项目。并且参考多项行业标准0。可应用于电子/半导体行业领域。 仪器简介: 椭圆偏振光谱是一种无损无接触的光学测量技术,基于测量线偏振光经过薄膜样品反射后偏振状态发生的改变,通过模型拟合后得到薄膜、界面和表面粗糙层的厚度以及光学性质等等,可测厚度范围为几埃至几十微......
堀场HORIBAHORIBA Plus研究级经典型椭偏仪UVISEL 可以用在电子/半导体行业领域,用来检测III-V族半导体,可完成厚度,光学常数项目。符合多项行业标准0。 仪器简介: 椭圆偏振光谱是一种无损无接触的光学测量技术,基于测量线偏振光经过薄膜样品反射后偏振状态发生的改变,通过模型拟合后得到薄膜、界面和表面粗糙层的厚度以......
仪器简介介质损耗和介电常数是各种金属氧化物,板材,瓷器(陶器),云母,玻璃,塑料等物质的一项重要的物理性质。通过测定可进一步了解影响介质损耗和介电常数的各种因素,为提高材料的性能提供依据。仪器用途介电常数测试仪用于科研机关、学校、工厂等单位对无机金属新材料性能的应用研究。 参考标准u GB/T 1409-2006 测量电气绝缘材料在工频、音频、高......
介质损耗和介电常数是各种金属氧化物,板材,瓷器(陶器),云母,玻璃,塑料等物质的一项重要的物理性质。通过测定可进一步了解影响介质损耗和介电常数的各种因素,为提高材料的性能提供依据。 介电常数测试仪的仪器用途 该仪器用于科研机关、学校、工厂等单位对无机金属新材料性能的应用研究。 参考标准 GB/T 1409-2006 测量电气绝缘材料在工频、音频、......