微波等离子化学气相沉积
微波等离子化学气相沉积系统-MPCVD微波等离子化学气相沉积技术（MPCVD）, 通过等离子增加前驱体的反应速率，降低反应温度。适合制备面积大、均匀性好、纯度高、结晶形态好的高质量硬质薄膜和晶体。 MPCVD是制备大尺寸单晶金刚石有效手段之一。德国iplas公司的 CYRANNUS® 等离子技术解决了传统等离子技术的局......
牛津仪器等离子体增强化学气相沉积系统PlasmaPro 100 PECVD可以用在纳米材料行业领域，用来检测Nano Material，可完成Nano Material项目。符合多项行业标准Oxford Instruments。 纳米材料生长和表征 选择单晶片/批处理或盒式进样，采用真空进样室。 该PlasmalabSystem100可以集成到一个集群系统中......
牛津仪器等离子体增强化学气相沉积系统PlasmaPro 100 PECVD适用于Power Semiconductors项目，参考多项行业标准Oxford Instruments。可以检测Power Semiconductors等样品。可应用于高分子材料行业领域。 半导体制造解决方案 选择单晶片/批处理或盒式进样，采用真空进样室。 该PlasmalabSys......
牛津仪器镀膜机PlasmaPro 100 PECVD用于测定Nano Material，符合行业标准Oxford Instruments。适用Nano Material项目。 纳米材料生长和表征 选择单晶片/批处理或盒式进样，采用真空进样室。 该PlasmalabSystem100可以集成到一个集群系统中，采用中央机械手传送晶片，生产工艺中采用全片盒到片盒晶......
牛津仪器镀膜机PlasmaPro 100 PECVD可以用在纳米材料行业领域，用来检测Power Semiconductors，可完成Power Semiconductors项目。符合多项行业标准Oxford Instruments。 半导体制造解决方案 System 100 -等离子刻蚀与沉积设备该设备是一个灵活和功能强大的等离子体刻蚀和淀积工艺设备。 采......
牛津仪器镀膜机PlasmaPro 100 PECVD参考多项行业标准Oxford Instruments。完成Nano Material的检测。可以用在生物质材料行业领域中的Nano Material项目。 纳米材料生长和表征 选择单晶片/批处理或盒式进样，采用真空进样室。 该PlasmalabSystem100可以集成到一个集群系统中，采用中央机械手传送晶......
牛津仪器镀膜机PlasmaPro 100 PECVD适用于Nano Material项目，参考多项行业标准Oxford Instruments。可以检测Nano Material等样品。可应用于纳米材料行业领域。 纳米材料生长和表征 System 100 -等离子刻蚀与沉积设备该设备是一个灵活和功能强大的等离子体刻蚀和淀积工艺设备。 采用真空进样室进样可进行......
微波等离子化学气相沉积系统-MPCVD微波等离子化学气相沉积技术（MPCVD），是通过等离子体提高前驱体的反应速率，降低反应温度。它适合制备面积大、均匀性好、纯度高、结晶形态良好的高质量硬质薄膜和晶体。MPCVD被广泛应用于制备大尺寸单晶金刚石。德国iplas公司开发的CYRANNUS®等离子技术解决了传统等离子技术的问题，能够在10mbar到室压范围内激发......
微波等离子化学气相沉积系统-MPCVD微波等离子化学气相沉积技术（MPCVD）通过等离子增加前驱体的反应速率，降低反应温度。适合制备面积大、均匀性好、纯度高、结晶形态好的高质量硬质薄膜和晶体。MPCVD是制备大尺寸单晶金刚石有效手段之一。德国iplas公司的CYRANNUS®等离子技术解决了传统等离子技术的局限，可以在10mbar到室压范围内激发高稳定度的等......
微波等离子化学气相沉积系统-MPCVD微波等离子化学气相沉积技术（MPCVD）通过等离子增加前驱体的反应速率，从而降低反应温度，适合制备面积大、均匀性好、纯度高、结晶形态好的高质量硬质薄膜和晶体。MPCVD是制备大尺寸单晶金刚石的有效手段之一。德国iplas公司的CYRANNUS®等离子技术解决了传统等离子技术的局限，可以在10mbar到室压范围内激发高稳定......