微波合成微波等离子化学气相沉积系统-MPCVDCYRANNUS

微波等离子化学气相沉积系统-MPCVD微波等离子化学气相沉积技术（MPCVD），是通过等离子体提高前驱体的反应速率，降低反应温度。它适合制备面积大、均匀性好、纯度高、结晶形态良好的高质量硬质薄膜和晶体。MPCVD被广泛应用于制备大尺寸单晶金刚石。德国iplas公司开发的CYRANNUS®等离子技术解决了传统等离子技术的问题，能够在10mbar到室压范围内激发高稳定度的等离子团，减少了等离子体状态的波动，确保单晶生长的连续性，为合成大尺寸单晶金刚石提供有力保证。

应用领域
● 大尺寸宝石级单晶钻石
● 高取向度金刚石晶体
● 纳米结晶金刚石
● 碳纳米管/类金刚石碳（DLC）
● 另外，MPCVD也适用于制备Al2O3、c-BN等其他硬质材料的薄膜和晶体。

MPCVD等离子化学气相沉积设备特点
1. CYRANNUS®技术无需在样品腔内安装内部电，并且沉积腔内无污染源，能够确保等离子体的均匀分布和生长周期。
2. CYRANNUS®技术的腔外多电设置，确保等离子团稳定生成于腔内中心位置，对腔壁、窗口等无侵蚀作用，提高晶体纯度。
3. 电子温度和离子温度对中性气体温度之比非常高，运载气体保持合适的温度，因此可使基底的温度不会过高。
4. 微波发生器稳定易控，能在10mbar到室压的高压强环境下维持等离子体。保证等离子体状态的稳定，有利于获得大尺寸单晶金刚石。
5. 可以采用磁约束的方法，约束等离子团在约定的空间内。
6. 高安全性，微波泄漏小，容易达到辐射安全标准。
7. 可搭配多种功率微波源和不同尺寸腔体，满足不同需要。

设备选件
化学机理概要
碳氢化合物：提供沉积材料
氢气：生成sp3键
氧：对石墨相/sp2键侵蚀
惰性气体：缓冲气体，或生成纳米晶体。

适用合成材料
- 大尺寸宝石级单晶钻石
- 高取向度金刚石晶体
- 纳米结晶金刚石
- 碳纳米管/类金刚石碳（DLC）
- 金刚石薄膜

多种等离子发生器选择
- 频率：2.45GHz, 915MHz
- 功率：1-2kW, 1-3kW, 3-6kW, 1-6kW，5-30kW
- 等离子团直径：70mm, 145mm, 250mm, 400mm
- 工作其他范围：0-1000mBar

其他应用
另外，MPCVD还适用于平面基体或曲面颗粒的Al2O3、c-BN等其他硬质材料的薄膜沉积和晶体合成。德国iplas公司凭借几十年在等离子技术领域的积累，可以为用户提供高度定制的设备，满足用户不同的应用需要。

发表文章
1. 使用光谱学方法测定化学气相沉积钻石单晶中氮的溶解限，应用光谱学杂志，第82卷，第2期，2015年5月（俄文原版为第82卷，2015年3月-4月）。
2. 用微波等离子CVD技术沉积大面积多晶金刚石涂层，陶瓷学报，第72卷，第4期，2013年，225-232页。

用户单位
中科院沈阳金属所
吉林大学

微波合成微波等离子化学气相沉积系统-MPCVDCYRANNUS信息由QUANTUM量子科学仪器贸易（北京）有限公司为您提供，如您想了解更多关于微波合成微波等离子化学气相沉积系统-MPCVDCYRANNUS报价、型号、参数等信息，欢迎来电或留言咨询。

注：该产品未在中华人民共和国食品药品监督管理部门申请医疗器械注册和备案，不可用于临床诊断或治疗等相关用途