离子研磨抛光仪
SEM 样品制备的理想工具 SEMPrep2 作为新一代的高精密氩离子研磨系统，可以满足研究人员最苛刻的研磨需求。集成式多功能截面抛削以及无损平面抛光系统，为 SEM 以及 EBSD 用户提供最好的制样助力。智能便捷的使用体验先进的操作界面提供了从初学者到专家用户的最佳操作模式。并且 SEMPrep2 提供了全自动的预设参数，使得用户可以一键进行几......
徕卡德国 离子研磨仪 EM TIC 3XLeica EM TIC 3X用于测定太阳能电池，符合行业标准。适用截面结构项目。 方案摘要 三离子束切割仪 Leica EM TIC 3X几乎任何材质样品都可获得高质量截面，在没有任何变形或损伤的情况下揭开样品内部zei真实结构信息，在使用徕卡EM TIC3X之前，这类工作从未变得如此之简单。徕卡EM TIC 3X三......
徕卡抛光机Leica EM TIC 3X可以用在煤炭行业领域，用来检测太阳能电池，可完成截面结构项目。符合多项行业标准。 方案摘要 三离子束（分别独立控制），冷冻样品台及多样品台，确保离子束对样品处理高效，切割区域宽且深，从而获得高质量截面切割结果。为您带来的优势顶级性能独特的三离子束系统，可获得zei佳的截面处理质量，并可高效获得宽且深的切割区域，大大降低......
徕卡抛光机Leica EM TIC 3X可以用在纳米材料行业领域，用来检测半导体芯片，可完成截面结构项目。符合多项行业标准。 1.独特的三离子束系统，可获得最佳的截面处理质量，并可高效获得宽且深的切割区域，大大降低工作时间。并可实现在一次处理过程中最多处理3个样品。因此对有高通量需求的实验室，徕卡EM TIC 3X是最佳解决方案。 三离子束切割仪......
徕卡德国 离子研磨仪 EM TIC 3XLeica EM TIC 3X用于测定半导体芯片，符合行业标准。适用截面结构项目。 1.独特的三离子束系统，可获得最佳的截面处理质量，并可高效获得宽且深的切割区域，大大降低工作时间。并可实现在一次处理过程中最多处理3个样品。因此对有高通量需求的实验室，徕卡EM TIC 3X是最佳解决方案。 三离子束（分别独......
徕卡抛光机Leica EM TIC 3X参考多项行业标准。完成半导体芯片的检测。可以用在纳米材料行业领域中的截面结构项目。 1.独特的三离子束系统，可获得最佳的截面处理质量，并可高效获得宽且深的切割区域，大大降低工作时间。并可实现在一次处理过程中最多处理3个样品。因此对有高通量需求的实验室，徕卡EM TIC 3X是最佳解决方案。 三离子束切割仪 ......
德国 离子研磨仪 EM TIC 3X抛光机徕卡 应用于其他生命科学有特定规范与标准，应用于其他生命科学行业领域。点击查看相关规范标准。 徕卡电镜制样流程 Leica Vienna -Since 1876 三离子束切割仪 Leica EM TIC 3X几乎任何材质样品都可获得高质量截面，在没有任何变形或损伤的情况下揭开样品内部zei真实结构信息，在使用徕卡EM......
点击查看下载徕卡德国 离子研磨仪 EM TIC 3X抛光机 三离子束切割仪产品单页相关资料，进一步了解产品。 徕卡Leica EM TIC 3X可通过离子束侧面轰击样品，获得高质量无应力“切割”截面，以便于SEM观察，及EDX或EBSD等分析。并可对样品进行离子束平面抛光，抛光面积达25mm。Leica EM TIC 3X适用于多层膜材料、软硬复合材料，金属......
点击查看下载抛光机德国 离子研磨仪 EM TIC 3X徕卡 样本相关资料，进一步了解产品。 徕卡Leica EM TIC 3X可通过离子束侧面轰击样品，获得高质量无应力“切割”截面，以便于SEM观察，及EDX或EBSD等分析。并可对样品进行离子束平面抛光，抛光面积达25mm。Leica EM TIC 3X适用于多层膜材料、软硬复合材料，金属、陶瓷、地质等各种......
Qpol 30是一款便携式的手动磨抛机。 优点便携式研磨抛光装置两个微电机的控制单元通过减速齿轮增加扭矩完美研磨 - QATM 的耗材如果使用正确的方法：知识、细心以及正确选择耗材和设备，研磨就会更加可靠、安全和高效。研磨抛光机 Qpol 30技术参数转速1000-40,000rpm，连续可调磨盘直径30 mm电压要求230 V / 50-60 H......