日立高新U-3900
日立U-3900/3900H分光光度计可满足各种分析需求，分析对象从固定材料到液体材料。该型仪器共有两种类型，可以根据分析检测目的和用途的需要选择。该型仪器应用范围广，重点应用于水质、环境、生物技术、制药、材料等领域的分析检测。特点：低散射光和低噪声，可测量的吸光度范围宽。传输的光线量越多，获得的光谱噪音就越小，因此可以检测到吸收区域的光线范围就越宽。可以检......
日立高新离子研磨装置IM4000（HITACHI Ion Milling System IM4000 ）具有断面加工和平面研磨功能的混合仪器！ 日立高新离子研磨装置IM4000（HITACHI Ion Milling System IM4000 ）的混合模式带有两种研磨配置： 断面加工：将样品断面研磨光滑，便于表面以下结......
日立高新磁控溅射器（Hitachi Ion Sputter )MC1000采用了电磁管电极，能够最大限度地减轻对样品的损坏，并在样品表面涂覆一层均匀粒子。适用于高分辨率的扫描式电子显微镜。日立高新磁控溅射器（Hitachi Ion Sputter )MC1000的最大样品直径：60 mm日立高新磁控溅射器（Hitachi Ion Sputter )MC100......
产品简介 日立U-3900/3900H分光光度计可满足各种分析需求，分析对象从固定材料到液体材料。该型仪器共有两种类型，可以根据分析检测目的和用途的需要选择。该型仪器应用范围广，重点应用于水质、环境、生物技术、制药、材料等领域的分析检测。 特点： 低散射光和低噪声，可测量的吸光度范围宽 传输的光......
日立高新磁控溅射器（Hitachi Ion Sputter )MC1000采用了电磁管电极，能够最大限度地减轻对样品的损坏，并在样品表面涂覆一层均匀粒子。适用于高分辨率的扫描式电子显微镜。日立高新磁控溅射器（Hitachi Ion Sputter )MC1000的最大样品直径：60 mm日立高新磁控溅射器（Hitachi Ion Sputter ......
日立DNA测序仪DS3000 标准有特定规范与标准，应用于临床生物化学行业领域。点击查看相关规范标准。 KRAS中一种普遍存在的突变在胰腺癌的发生过程中起着起始基因的作用，随后肿瘤抑制基因如TP53，CDKN2A，SMAD4导致侵袭性和转移性疾病前体的进展。一项研究表明，这些突变的数量与PDA患者的术后生存率显著相关。最近的遗传学研究也发现PDA之间的突变谱......
日立DS3000紧凑型基因分析仪上世纪90年代初，人类基因组计划是三大科学计划之一，并于2001年完成了人类基因组草图。这一伟大工程是基于“Sanger法”的DNA测序技术。科学技术的发展导致一代测序的受检测效率受限，无法满足大量基因组测序的需求，因此二代、三代、甚至四代高通量测序技术不断出现。一代测序因准确率极高，至今仍在科研、法医、疾病控制、食品药品和临......
仪器简介：新一代的双光束U3900/3900H型UV-Vis分光光度计，首创紫外区变速测试，减少噪声水平到1/3技术参数：measuring wavelength range：190to900nm Spectral bandpass;0.1,0.5,1,2,4,5nm(6kinds) Wavelength accuracy;±0.1nm(......
日立高新离子研磨装置IM4000日立高新离子研磨装置IM4000（HITACHI Ion Milling System IM4000 ）的混合模式带有两种研磨配置：断面加工：将样品断面研磨光滑，便于表面以下结构高分辨成像。平面研磨：将样品表面均匀研磨5平方毫米，从不同角度有选择地研磨，以便突出样品的表面特性。日立高新离子研磨装置IM4000（HI......
中型生化分析仪：1000项测试每小时糖化血红蛋白检测速度：500项测试每小时采用轨道式进样，可连接流水线。......