日立高新U-3900
日立U-3900/3900H分光光度计可满足各种分析需求，分析对象从固定材料到液体材料。该型仪器共有两种类型，可以根据分析检测目的和用途的需要选择。该型仪器应用范围广，重点应用于水质、环境、生物技术、制药、材料等领域的分析检测。特点：低散射光和低噪声，可测量的吸光度范围宽。传输的光线量越多，获得的光谱噪音就越小，因此可以检测到吸收区域的光线范围就越宽。可以检......
日立高新磁控溅射器（Hitachi Ion Sputter )MC1000采用了电磁管电极，能够最大限度地减轻对样品的损坏，并在样品表面涂覆一层均匀粒子。适用于高分辨率的扫描式电子显微镜。日立高新磁控溅射器（Hitachi Ion Sputter )MC1000的最大样品直径：60 mm日立高新磁控溅射器（Hitachi Ion Sputter ......
新品详情 上市时间：2012年11月 创新点:高画质的钨灯丝扫描电镜, 图象质量更进一步。 通过高画质提升扫描电镜的分析能力和操作性, 凝聚日立zei先进科技“独具匠心”。日立高新钨灯丝扫描电镜SU3500具有实现了“3kV加速电压7nm分辨率”的全新电子光学系统, 可实现实时立体成像的“实时立体观察功能”＊1, 以及更高检......
日立高新磁控溅射器（Hitachi Ion Sputter )MC1000采用了电磁管电极，能够最大限度地减轻对样品的损坏，并在样品表面涂覆一层均匀粒子。适用于高分辨率的扫描式电子显微镜。日立高新磁控溅射器（Hitachi Ion Sputter )MC1000的最大样品直径：60 mm日立高新磁控溅射器（Hitachi Ion Sputter )MC100......
日立高新离子研磨装置IM4000（HITACHI Ion Milling System IM4000 ）具有断面加工和平面研磨功能的混合仪器！ 日立高新离子研磨装置IM4000（HITACHI Ion Milling System IM4000 ）的混合模式带有两种研磨配置： 断面加工：将样品断面研磨光滑，便于表面以下结......
仪器简介：新一代的双光束U3900/3900H型UV-Vis分光光度计，首创紫外区变速测试，减少噪声水平到1/3技术参数：measuring wavelength range：190to900nm Spectral bandpass;0.1,0.5,1,2,4,5nm(6kinds) Wavelength accuracy;±0.1nm(......
一、产品介绍日立U-3900/3900H分光光度计可满足各种分析需求，分析对象从固定材料到液体材料。该型仪器共有两种类型，可以根据分析检测目的和用途的需要选择。该型仪器应用范围广，重点应用于水质、环境、生物技术、制药、材料等领域的分析检测。二、应用领域广泛应用于生命科学、医学、药学和药理学、有机和无机化学等领域。三、产品特点日立U-3900/3900H分光光......
日立高新推出的扫描电镜SU3800/SU3900兼具操作性和扩展性，结合众多的自动化功能，可高效发挥其高性能。SU3900标配多功能超大样品仓，可应对大型样品的观察。产品特征SU3900标配多功能超大样品仓，可应对大型样品的观察（1）样品台可搭载超大/超重样品• 通过更换样品提示，可防止由于与样品的接触而损坏设备或样品• 选配样品交换仓，可在主样品仓保持真空......
简介日立高新磁控溅射器(MC1000)采用电磁管电极，能有效减轻对样品的损伤并实现均匀涂覆，适用于高分辨率扫描式电子显微镜。设备支持最大样品直径60mm，高度20mm，配备LCD触摸屏便于操作，具备记忆功能存储常用条件，并可选配处理较大样品的配件。 日立高新磁控溅射器（Hitachi Ion Sputter )MC1000采用了电磁......
核心参数仪器种类：台式/桌面型电子枪种类：钨灯丝二次电子图象分辨率：4.0 nm @ 20 kV （高真空模式），15.0 nm @ 1 kV （高真空模式）放大倍数：6× ～ 300,000× （底片倍率），16× ～ 800,000× （显示倍率）加速电压：0.3 kV ～ 20 kV背散射电子图像分辨率：5.0 nm @ 20 kV （低真空模式 ）简......