perkin-elmer光刻机
美国OAI成立至今已有35年历史，在光源制造和测量方面一直处于世界领先领域。 OAI光源以工作稳定，出光效率高，高均匀性和散射角小著称。且可提供20inch以上的大面积光源。 OAI光功率计在工业上有广泛应用，包括NIKON，CANON，ASM等知名光刻机制造商均使用OAI光功率计。 OAI也生产光刻机，尤其是OAI MODEL 800系列双......
仪器简介： 又名：掩膜对准曝光机，曝光系统，光刻系统，光刻机等 全球领先的半导体设备供应商，多年来致力于掩膜对准光刻机和匀胶机研发与生产，并且广泛应用于半导体、微电子、生物器件和纳米科技领域；该公司是目前世界上zei早将光刻机商品化的公司之一，拥有雄厚的技术研发力量和设备生产能力；并且其设备被众多著名企业、研发中心、研究所和高校所采......
小型台式无掩膜光刻系统 小型台式无掩膜光刻系统Microwriter ML3是英国Durham Magneto Optics公司专为实验室设计开发，为微流控、SAW、半导体、自旋电子学等研究领域提供方便高效的微加工方案。 传统的光刻工艺中所使用的铬玻璃掩膜板需要由专业供应商提供，但是在研发环境中，掩膜板的设计通常需......
Ushio手动光刻设备UPE-1102LU主要应用于LED芯片（蓝白光，红黄光）研发和生产当中，并且对全自动生产线所产生的LED芯片破片有辅助生产和处理的功能。同时也能对应一些较为特殊材质的芯片如：GaAs，SiO2的研发及生产。特点：*可调整光刻间距，最大限度的避免光刻板被污染。*操作简易，任何操作人员都能在短时间内熟练掌握。*产能高于一般同行业竞争对手，......
光刻机又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统，光刻机，紫外曝光机等；ECOPIA为全球领先的半导体设备供应商，多年来致力于掩模对准光刻机和匀胶机研发与生产，并且广泛应用于半导体、微电子、生物器件和纳米科技领域；该公司是目前世界上最早将光刻机商品化的公司之一，拥有雄厚的技术研发力量和设备生产能力；并且其设备被众多著名企业、研发中心、研究所和高校所采用；以优秀......
ZML系列无掩膜光刻机机型多样化高效、灵活、高分辨率和高套刻精度特征尺寸0.5μm | 高精度步进光刻 泽攸科技 ZML 系列 DMD 无掩膜光刻机，采用先进数字微镜直写技术，无需传统掩膜版即可灵活完成任意微纳图形的精准曝光，加工精度出色、成像稳定。设备采用紧凑设计，搭配智能自动对焦与直观操作系统，上手简单、使用高效，能大幅缩短研发周期、降低制版成......