又名：掩膜对准曝光机，曝光系统，光刻系统，光刻机等；

全球领先的半导体设备供应商，多年来致力于掩膜对准光刻机和匀胶机研发与生产，并且广泛应用于半导体、微电子、生物器件和纳米科技领域；该公司是目前世界上zei早将光刻机商品化的公司之一，拥有雄厚的技术研发力量和设备生产能力；并且其设备被众多著名企业、研发中心、研究所和高校所采用；依优秀的技术、精湛的工艺和良好的服务，赢得了用户的青睐。

相关设备：

甩胶机，甩膜机，涂胶机，旋转涂膜机，匀膜机，清洗机，显影机等；

基片尺寸：4、6、8、12、25英寸，其他要求支持；

光束均匀性：<±3%；

曝光时间可调范围：0.1 to 999.9秒；

对准精度：1微米，zei高0.5微米；

分辨率：1微米；

光束输出强度：15-25mW/cm2；

光源强度可控；

紫外、深紫外曝光；

系统控制：手动、半自动和全自动控制；

曝光模式：真空接触模式（接触力可调），Proximity靠近模式, 投影模式；

真空吸盘范围可调；

专利技术：双面对准！

双重显微镜系统，zei大放大1600倍；

光刻机信息由巨力科技有限公司为您提供，如您想了解更多关于光刻机报价、型号、参数等信息，欢迎来电或留言咨询。

注：该产品未在中华人民共和国食品药品监督管理部门申请医疗器械注册和备案，不可用于临床诊断或治疗等相关用途