实用的射频离子源
使用Thermo Scientific™VeriSpray™PaperSpray离子源缩短周转时间，降低每次测试成本，并最大程度地减少样品制备，这是一种全自动，高通量，直接电离技术，可与我们最新的Thermo Scientific™TSQ三重四极杆质谱仪一起使用。VeriSpray系统已完全集成到仪器控制软件和特定于应用程序的软件中，并且能够运行专有的Ver......
因产品配置不同, 价格货期需要电议, 图片仅供参考, 一切以实际成交合同为准上海伯东美国 KRi 射频离子源 RFICP 220 高能量栅极离子源, 适用于离子溅镀, 离子沉积和离子蚀刻. 在离子束溅射工艺中, KRi 射频离子源 RFICP 220 配有离子光学元件, 可以很好的控制离子束去溅射靶材, 实现更佳的薄膜......
因产品配置不同, 价格货期需要电议, 图片仅供参考, 一切以实际成交合同为准上海伯东美国 KRi 射频离子源 RFICP 140 是一款紧凑的有栅极离子源, 适用于离子束溅射沉积 IBSD, 离子辅助沉积 IBAD 和离子束刻蚀 IBE. 在离子束溅射工艺中, KRi 射频离子源 RFICP 140 配有离子光学元......
因产品配置不同, 价格货期需要电议, 图片仅供参考, 一切以实际成交合同为准上海伯东代理美国原装进口 KRI 射频离子源 RFICP 40 : 目前 KRI 射频离子源 RFICP 系列尺寸最小, 低成本高效离子源. 适用于集成在小型的真空腔体内. 离子源 RFICP 40 设计采用创新的栅极技术用......
因产品配置不同, 价格货期需要电议, 图片仅供参考, 一切以实际成交合同为准上海伯东美国 KRi 大口径射频离子源 RFICP 380, 3层栅极设计, 栅极口径 38cm, 提供离子动能 100-1200eV 宽束离子束, 最大离子束流 > 1000mA, 满足 300 mm (12英寸)晶圆应用. 广泛应用于离子束刻蚀机.KRi ......
上市时间：2020年5月DESI成像技术通过将喷雾溶剂连接于毛细管上，施加一定的高电压，在氮气的辅助下形成带电喷雾液滴，轰击样品表面，带电溶剂和待分析物同时发生电析和解离，去溶剂化后，沿着传输毛细管进入质谱进行分析。DESI XS：新型设计、性能优异DESI™ XS旨在利用创新科技实现更高的质量、可靠性和简便性。该离子源可部署在沃特世高分辨率质谱仪产品组合中......
UniSpray离子源可电离种类更多的化合物UniSpray是沃特世专门研发的一种新型电离模式。这款创新型离子源的电离效果比基于任何其他单一技术的离子源都更加全面，这使用户能够通过单次分析获取更丰富的样品信息。与电喷雾电离(ESI)、大气压化学电离(APCI)或大气压光电电离(APPI)相比，Waters UniSpray可电离种类更多的化合物，而且具备提升......
因产品配置不同, 价格货期需要电议, 图片仅供参考, 一切以实际成交合同为准上海伯东代理美国原装进口 KRI 射频离子源 RFICP 100 紧凑设计, 适用于离子溅镀和离子蚀刻. 小尺寸设计但是可以输出 >400 mA 离子流. 射频离子源 RFICP 100 源直径19cm 安装在10”CF 法兰, 在离子溅镀时, 离......
因产品配置不同, 价格货期需要电议, 图片仅供参考, 一切以实际成交合同为准上海伯东代理美国原装进口 KRI 射频离子源 RFICP 40 : 目前 KRI 射频离子源 RFICP 系列尺寸最小, 低成本高效离子源. 适用于集成在小型的真空腔体内. 离子源 RFICP 40 设计采用创新的栅极技术用于研发和开发应用. 离子源 RFICP 40 无需电离灯丝设......