电子束处理原理

JBX-6300FS 电子束光刻系统JBX-6300FS的电子光学系统在100kV的加速电压下能自动调整直径为(计算值)2.1nm的电子束,简便地描画出线宽在8nm以下(实际可达5nm)的图形。 此外,该光刻系统还实现了9nm以下的场拼接精度和套刻精度,性能比优越。 利用zei细电子束束斑(实测值直径≦2.9nm)可以描画8nm以下(实际可达5nm)极为精细......

JBX-9500FS 电子束光刻系统JBX-9500FS是一款100kV圆形束电子束光刻系统,兼具世界zei高水平的产出量和定位精度,zei大能容纳300mmφ的晶圆片和6英寸的掩模版,适合纳米压印、光子器件、通信设备等多个领域的研发及生产。产品特点:JBX-9500FS是一款100kV圆形束电子束光刻系统,兼具世界zei高水平的产出量和定位精度,zei大能......

JBX-3200MV 电子束光刻系统JBX-3200MV是用于制作28nm~22/20nm节点的掩模版/中间掩模版(mask/reticle)的可变矩形电子束光刻系统。 zei先进的技术实现了高速、高精度和高可靠性。 是基于加速电压50 kV的可变矩形电子束和步进重复式的光刻系统。产品特点:JBX-3200MV是用于制作28nm~22/20nm节点的掩模版/......

JBX-3050MV 电子束光刻系统JBX-3050MV 是用于制作45nm~32nm 节点的掩模版/中间掩模版(mask/reticle)的可变矩形电子束光刻系统。 zei先进的技术实现了高速、高精度和高可靠性。 是基于加速电压50 kV的可变矩形电子束和步进重复式的光刻系统。产品特点:JBX-3050MV 是用于制作45nm~32nm 节点的掩模版/中间......

产品特点:以电子束为热源使用各种熔解用坩埚,对高融点活性金属进行熔解/精炼、制备铸锭的电子束熔炼炉。适合研究开发及少量生产、省空间设计的小型熔炼炉。可按照用途选择坩埚种类、材料供给系统和电子枪输出功率。横向送料机构 +抽锭式铸型  电子束熔解・精炼・抽锭BS–EBM对推送中的棒材用电子束进行照射,使棒材熔化后滴入熔液箱进行充分熔解,再将熔液倾入抽锭......

产品特点:是基于加速电压50 kV的可变矩形电子束和步进重复式的光刻系统利用步进重复式曝光的优点,结合曝光剂量调整功能及重叠曝光等功能,能支持下一代掩模版/中间掩模版(mask/reticle)图形制作所需要的多种补偿。JBX-3050MV 是用于制作45nm~32nm 节点的掩模版/中间掩模版(mask/reticle)的可变矩形电子束光刻系统。zei先进......

产品特点:利用步进重复式曝光的优点,结合曝光剂量调整功能及重叠曝光等功能,能支持下一代掩模版/中间掩模版(mask/reticle)图形制作所需要的多种补偿。JBX-3200MV是用于制作28nm~22/20nm节点的掩模版/中间掩模版(mask/reticle)的可变矩形电子束光刻系统。zei先进的技术实现了高速、高精度和高可靠性。是基于加速电压50 kV......

点击查看下载BravoAgilent 自动化液体处理平台安捷伦 自动化液体处理平台相关资料,进一步了解产品。 Agilent Bravo 自动化液体处理平台功能多样,操作精确,体积小巧紧凑。它是速度zei快、功能zei全面的液体处理系统。有两种型号的 Bravo 平台可供选择:标准型和 SRT 型。标准型可安装在大多数标准层流罩内。SRT 型......

传统糖链前处理

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安捷伦 糖基化

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通过简单的方法去除糖链样品中的污染物。提供用于蛋白质去除、脱盐、多余染料去除以及其他应用的各种小柱,覆盖了糖链样品纯化的各个方面。无论您的传统工作流程需要执行高通量分析或一次仅需分析几个样品,总能找到适合您的净化解决方案。 ......

百泰派克生物科技 - 您身边的生物质谱专家!北京百泰派克生物科技有限公司(Beijing Bio-Tech Pack Technology Company Ltd.简称BTP)从事以生物质谱为依托的生物药物表征,大分子物质(包括蛋白质、多肽、代谢物)质谱分析以及小分子物质检测服务。公司采用ISO9001质量控制体系,专业提供以质谱为基础的CRO检测分析服务,......