扫描电镜 日本电子
分辨率高真空模式分析时低真空模式1.5nm(@30kV),4nm(@1kV)3nm(@15kV，探针电流1nA)1.8nm(15kV,BED)放大倍率X5-X600,000（以128X96mm 的显示尺寸规定放大倍率显示倍率X14-X1,679,449(以358mmX269mm的显示尺寸规定放大倍率)电子枪高亮度六硼化镧电子枪加速电压加速电压：0.......
为了响应近来已成为主流的远程操作的需求，NEOARM的电镜室和操作室实行了分离式，主机使用了JEOL的新概念颜色—纯白色和JEOL银色，设计精炼时尚。主要特点： ◇ 球差校正器ASCOR（Advanced STEM Corrector）“NEOARM”配备的新型球差校正器ASCOR能够校正高阶像差（即6重像散，目前阻碍透射电镜分辨率进一步......
日本电子JEM-ARM200F NEOARM 原子分辨分析型球差校正透射电镜 新ABF（Annular Bright Field）检测器系统
参考成交价格： 2000~2500万元[人民币]
型号：JEM-ARM200F NEOARM
主要特点： ◇ 自动像差校正软件JEOL COSMO™（Corrector System Module）JEOL COSMO™采用了全新像差校正算法(SRAM：Segmented Ronchigram Auto-correlation function Matrix)，校正像差不需要交换标准样品也可以快速精确地校正至高阶像差。与采用传统校......
1. 浸没式肖特基Plus场发射电子枪集成的浸没式肖特基Plus电子枪和低像差聚光透镜可实现高亮度。即使低加速电压下也能获得充足的探针电流(100nA@5kv), 这可帮助用户在对SEM参数进行微小调整的情况下，进行高分辨观察、高速元素面分析、EBSD分析、软X射线分析。2. Neo Engine（New Electron......
BS-EBM系列多用途电子束熔炼炉以电子束为热源使用各种熔解用坩埚，对高融点活性金属进行熔解/精炼、制备铸锭的电子束熔炼炉。 适合研究开发及少量生产、省空间设计的小型熔炼炉。 可按照用途选择坩埚种类、材料供给系统和电子枪输出功率。产品特点：以电子束为热源使用各种熔解用坩埚，对高融点活性金属进行熔解/精炼、制备铸锭的电子束熔炼炉。适合研究开发及少量生产、省空间......
产品特点：以电子束为热源使用各种熔解用坩埚，对高融点活性金属进行熔解/精炼、制备铸锭的电子束熔炼炉。适合研究开发及少量生产、省空间设计的小型熔炼炉。可按照用途选择坩埚种类、材料供给系统和电子枪输出功率。横向送料机构 +抽锭式铸型 电子束熔解･精炼･抽锭BS–EBM对推送中的棒材用电子束进行照射，使棒材熔化后滴入熔液箱进行充分熔解，再将熔液倾入抽锭......
节省空间的设计BS–EBM重视研究实验室的使用条件，在充分考虑实验室内高度及占地面积前提下对安装空间进行了优化设计。（W3m×D4m×H3.5m）*1 *1 铸锭的尺寸､电子枪电源选择的型号等不同条件会对安装空间尺寸产生若干影响。可选择适合输出功率的电源BS-EBM系列所配置的电子枪，可根据zei大输出功率 (30kW / 100kW /......
产品特点：JEBG系列大功率电子枪是用来在真空中蒸发或熔解金属及氧化物的大功率电子束发生源，能在宽幅塑料及大面积玻璃基板上持续、高速率地镀膜，还可应用于电子束熔炼，用于高熔点金属铸锭的制备及精炼。电子束能大范围地快速扫描，通过专用的控制装置和软件，能生成各种电子束照射图形和区域。由于能够在各个照射位置上设定扫描、停留时间、输出功率及电子束形状，因而能够控制熔......
JEBG 系列大功率电子枪・电源JEBG系列大功率电子枪是用来在真空中蒸发或熔解金属及氧化物的大功率电子束发生源，能在宽幅塑料及大面积玻璃基板上持续、高速率地镀膜，还可应用于电子束熔炼，用于高熔点金属铸锭的制备及精炼。产品特点：JEBG系列大功率电子枪是用来在真空中蒸发或熔解金属及氧化物的大功率电子束发生源，能在宽幅塑料及大面积玻璃基板上持续、高速率地镀膜，......
产品规格：项目规格备注对象粉末粒径大约 0.1～100μm因粉末的种类、形状、状态而不同。送粉速度大约 1～50g/min因粉末的种类、形状、状态而不同。需要根据送粉量调整范围更换附件。载气种类惰性气体不能使用氦或氢等易燃气体。载气流量2～20L/min送料板和喷嘴根据原料粉末而不同。气体压力0.3MPa恒定，使用质量流量控制器。容器容量200cc可以安装（......