icp-rie刻蚀
品牌： GATAN名称型号：精密刻蚀镀膜系统PECS II 685制造商： 美国GATAN公司经销商：欧波同有限公司免费咨询电话：800-8900-558售后服务电话：800-8900-558产品综合介绍：产品功能介绍 Gatan公司的精密刻蚀镀膜仪 (PECS™) II 是一款桌面型宽束氩离子抛光及镀膜设备。对于同一个样品，可在同一真空环境下完成抛光及镀......
产品详情德国Sentech等离子刻蚀机ICP-RIE SI 500 低损伤刻蚀由于离子能量低，离子能量分布带宽窄，因此可以用我们的等离子体刻蚀机SI 500进行低损伤刻蚀和纳米结构的刻蚀。 高速刻蚀对于具有高深宽比的高速硅基MEMS刻蚀，光滑的侧壁可以通过室温下气体切换工艺或低温工艺即可很容易地实现。&......
合金，是由两种或两种以上的金属与金属或非金属经一定方法所合成的具有金属特性的物质。一般通过熔合成均匀液体和凝固而得。根据组成元素的数目，可分为二元合金、三元合金和多元合金。产品综合介绍：产品功能介绍 Gatan公司的精密刻蚀镀膜仪 (PECS™) II 是一款桌面型宽束氩离子抛光及镀膜设备。对于同一个样品，可在同一真空环境下完成抛光及镀膜。品牌介绍 美国......
镀层是指为了好看或储藏而涂在某些物品上的金属表面涂上一层塑料，或者一层稀薄的金属或为仿造某种贵重金属，在普通金属的表面镀上这种贵重金属的薄层。复合镀层的制备是在镀液中加入一种或数种不溶性固体颗粒,使固体颗粒与金属离子共沉积的过程,它实际上是一种金属基复合材料。产品综合介绍：产品功能介绍 Gatan公司的精密刻蚀镀膜仪 (PECS™) II 是一款桌面型宽束......
矿物一般是自然产出且内部质点（原子、离子）排列有序的均匀固体。其化学成分一定并可用化学式表达。所谓自然产出是指地球中的矿物都是由地质作用形成。产品综合介绍：产品功能介绍 Gatan公司的精密刻蚀镀膜仪 (PECS™) II 是一款桌面型宽束氩离子抛光及镀膜设备。对于同一个样品，可在同一真空环境下完成抛光及镀膜。品牌介绍 美国Gatan公司成立于1964年......
在半导体及精密电子制造领域，湿法刻蚀工艺的精确控制直接关系到产品质量与性能。硝酸和氢氟酸作为常用的蚀刻液组分，其浓度配比直接影响刻蚀速率和效果，因此快速、准确测定混酸浓度成为许多企业质量控制的刚需。传统的手工滴定方法不仅操作繁琐、重复性差，更难以准确判断滴定终点，尤其在对氢氟酸和硝酸连续滴定的复杂体系中，极易出现误判，影响结果的准确性。为解决这一行业痛点，湿......
低损伤刻蚀由于离子能量低，离子能量分布带宽窄，因此可以用我们的等离子体刻蚀机SI 500进行低损伤刻蚀和纳米结构的刻蚀。高速刻蚀对于具有高深宽比的高速硅基MEMS刻蚀，光滑的侧壁可以通过室温下气体切换工艺或低温工艺即可很容易地实现。自主研发的ICP等离子源三螺旋平行板天线(PTSA)等离子源是SENTECH高端等离子体工艺设备的独特属性。PTSA源能生成具有......
