化学仪器

System 100 -等离子刻蚀与沉积设备该设备是一个灵活和功能强大的等离子体刻蚀和淀积工艺设备。 采用真空进样室进样可进行快速的晶片更换、采用多种工艺气体并扩大了允许的温度范围。 具有工艺灵活性,适用于化合物半导体,光电子学,光子学,微机电系统和微流体技术, PlasmalabSystem100可以有很多的配置,详情如下。主要特点可处理8 &q......

仪器简介:华电化学分析仪器工作站是采用现场总线技术,用“虚拟表”代替传统的二次表,并同时具有网页发布等网络功 能的微机化汽水品质监控系统。 北京华电化学分析仪器工作站采用成熟的上、下位机的模式,实现对电厂化学水汽参数的采集控制炉内测量加 药。该工作站上位机采用高性能的工业控制计算机,下位机采用我公司自主开发的功......

解决方案
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