电镜制样抛光机
徕卡抛光机Leica EM TXP 参考多项行业标准。完成电镜制样产品的检测。可以用在多个行业领域中的电镜制样产品资料项目。 全新的精研一体机LEICA EM TXP是一款专门的可对目标区域进行精确定位的表面处理工具.非常适合干SEM，TEM及LM观察之前对样品进行切割、抛光等系列处理。它尤其适合于制备高难度样品，如需要对目标精细定位或需对肉眼难以观察的微小......
Leica EM TIC 3X抛光机徕卡 德国 电镜制样流程图有特定规范与标准，应用于其他生命科学行业领域。点击查看相关规范标准。 徕卡电镜制样流程 Leica Vienna -Since 1876 三离子束切割仪 Leica EM TIC 3X几乎任何材质样品都可获得高质量截面，在没有任何变形或损伤的情况下揭开样品内部zei真实结构信息，在使用徕卡EM T......
抛光机徕卡Leica EM TXP 德国 电镜制样流程图有特定规范与标准，应用于其他生命科学行业领域。点击查看相关规范标准。 徕卡电镜制样流程 Leica Vienna -Since 1876 For research use only为您带来的优势一体化自动程序控制一体化自动程序控制，包括自动左右制动机制，前进反馈力控制，倒计数功能等，为使用者节约大量时间......
生物样品在进行电镜观察之前，需要经过一系列复杂的样品处理过程主要包括固定、脱水、包埋、聚合、修块、超薄切片、染色等一系列必须步骤。LeicaEMTP是一款小型多功能型仪器，可用于电镜样品和光镜样品的组织处理和树脂渗透，满足实验室日常工作需求。特点：小批量、试剂消耗少主要技术参数：• 样本容量：三种配套可选电镜配套：56个/次光镜配套：16个/次电镜三样品篮系......
专为TKD分析设计的样品座，TKD是透射菊池花样演示分析技术，用于检测十几纳米尺度的EBSD分析方法，提高了空间分辨率。该样品座方便用户将超轻薄样品放置于SEM中，并符合光学原理的衍射花样，确保获得更加准确的信号量。TKD分析仍使用原有的EBSD软硬件，只是样品更薄且经过电解抛光穿孔。由于衍射信号来自样品下侧几个或几十个纳米厚度的区域，该技术也被称为透射EB......
【技术参数】样品室玻璃腔体尺寸为120mm x 120mmH，样品台为高强度不锈钢结构，可容纳12个标准钉形样品台，高度可在30mm内调节。蒸镀源为高纯度碳棒，直径为6.15mm。蒸镀控制系统采用微处理器控制，可以实现远程电流/电压感应，最大电流为180A。此外，系统还提供真空安全联锁装置和过流保护。真空范围为Atm-0.001mb，电流范围为0–200A。......
专为TKD分析而设计的样品座，TKD是指透射菊池花样演示分析（Transmission Kikuchi Diffraction）技术，是一种用于检测十几纳米尺度的EBSD分析方法。这种技术的空间分辨率比传统技术提高了一个数量级。该样品座方便用户将超轻薄的样品放置在SEM中，并产生符合光学原理的衍射花样，以确保获得更准确的信号量。TKD分析仍然使用原有的EBS......
新产品OmniGISII是一个气体注入系统，具有单端口设计，可用于SEM和FIB里构建纳米结构。它能够以前所未有的精度、速度和可用性来引入可控制的流动气体方案，在扫描电镜或聚焦离子束样品室中直接作用于样品。这种系统可以在材料表面进行刻蚀或沉积，用于样品制备、纳米焊接以及直写式光刻技术建立纳米结构。OmniGISII是牛津仪器的第二代气体注入系统，具有独特的特......
