PICOSUN原子层沉积设备ALD可用于在激光器和功率器件的应用

Picosun独特的突破性ALD专业知识可追溯到ALD技术本身的诞生。于1974年在芬兰发明了ALD方法，并在工业上获得了 。在高质量ALD系统设计方面拥有丰富的经验。高度敬业的Picosun人员拥有无与伦比的ALD经验，并且为ALD的许多 做出了贡献。

Picosun的热情在于创新。当您想与设备制造商共同创建定制的ALD解决方案，从而引领行业发展时，Picosun是您的合作伙伴。

1.在集成电路上的应用：Fin-FET和HKMG工艺在Si衬底上长高K绝缘层HfO2，La2O3，Ta2O5，Al2O3等；电容器金属电极；晶体管栅电极；TSV电镀铜前长阻挡层和种子层；

2.在显示中的应用：在Micro-LED中通过在沟槽中长钝化层来改善光散射性能；在OLED中低温长防水层。

3.在激光器和功率器件的应用：VCSEL侧面长AlN、Al2O3保护层；GaN高频器件T Gate刻蚀后去氧化层并镀上保护层。

4.验证光刻胶性能：第三方实验室或者工厂FA部门，涂胶后通过低温ALD镀一层很薄的膜来保持住光刻胶的整体形貌，然后通过FIB+TEM等方法来验证光刻胶性能，如果不镀膜直接上FIB或TEM会破坏光刻胶原有的形貌，无法获得准确的结果。

5.其他应用：MEMS/SAW等做高均匀性镀膜，锂电池、医疗等行业等粉末镀膜。

PICOSUN®P-300B

PICOSUN®P-300B ALD系统是专为生产MEMS设备（例如打印头，传感器和麦克风）以及各种3D物品（例如机械零件，玻璃或金属薄板，硬币，手表零件和珠宝，镜片，光学器件以及医疗设备和植入物。

PICOSUN®P-300 ALD系统已成为大批量ALD制造中的新标准。通过将我们的 热墙设计与完全分开的入口集成在一起，我们可以生产出具有优异产量，低颗粒水平以及卓越的电学和光学性能的最高质量的ALD膜。灵活的设计以及易于快速的维护，确保了系统停机时间最少，市场拥有成本最低。我们专有的Picoflow™扩散增强剂技术可通过经过生产验证的工艺，在超高深宽比的基材上实现高度保形的涂层。

PICOSUN®P-300B ALD系统是专门为MEMS和3维零件生产中的批处理而设计的，例如机械零件，硬币，钟表零件和珠宝，镜片，光学元件和医疗设备，外科植入物和植入物的涂层设备（PicoMEDICAL™解决方案）。该系统速度快，可靠性高且易于维护。

PICOSUN®P-300BV

PICOSUN®P-300BV ALD系统是专门为生产LED，分立器件和MEMS设备（例如打印头，传感器和麦克风）而设计的。

PICOSUN®P-300 ALD系统已成为大批量ALD制造中的新标准。通过将我们的 热墙设计与完全分开的入口集成在一起，我们可以生产出具有优异产量，低颗粒水平以及卓越的电学和光学性能的最高质量的ALD膜。灵活的设计以及易于快速的维护，确保了系统停机时间最少，市场拥有成本最低。我们专有的Picoflow™扩散增强剂技术可通过经过生产验证的工艺，在超高深宽比的基材上实现高度保形的涂层。

PICOSUN®P-300BV ALD系统代表了工业ALD的尖端。该系统设计用于半自动处理晶圆批次。该工具针对快速批量生产进行了优化，可以通过SECS / GEM选件集成到工厂自动化中。带有加热选件的真空加载系统能够对敏感基材进行清洁处理，并沉积诸如金属氮化物之类的材料。

PICOSUN®P-300S

PICOSUN®P-300S ALD系统是专门为生产IC组件（例如微处理器，存储器和硬盘驱动器）而设计的，并且还适用于MEMS设备（例如打印头，传感器和麦克风）。

PICOSUN®P-300 ALD系统已成为大批量ALD制造中的新标准。通过将我们的 热墙设计与完全分开的入口集成在一起，我们可以生产出具有优异产量，低颗粒水平以及卓越的电学和光学性能的最高质量的ALD膜。灵活的设计以及易于快速的维护，确保了系统停机时间最少，市场拥有成本最低。我们专有的Picoflow™扩散增强剂技术可通过经过生产验证的工艺，在超高深宽比的基材上实现高度保形的涂层。

PICOSUN®P-300S ALD系统代表了工业ALD的尖端。该系统旨在与行业标准真空集群平台结合使用，对单个晶圆进行全自动处理。可以通过SECS / GEM选件将SEMI S2 / S8认证的P-300S ALD系统集成到工厂自动化中，它们可以满足半导体行业最严格的清洁度要求。

PICOSUN®P-300S是IC创新驱动行业的首选ALD系统。

PICOSUN®P-1000

PICOSUN®P-1000 ALD系统设计用于批量喷涂各种3D物品，例如机械零件，玻璃或金属薄板，硬币，手表零件和珠宝，镜片，光学器件以及医疗设备和植入物。

PICOSUN®P-1000 ALD系统设计用于批量处理各种3维物品，例如机械零件，硬币，钟表零件和珠宝，镜片，光学器件和医疗设备，外科植入物和可植入设备（PicoMEDICAL™解决方案）在生产环境中。主要应用包括各种钝化层和阻挡层，以显着提高涂层产品的性能和使用寿命。 PICOSUN®P-1000 ALD系统提供创新且灵活的设计，可通过经过生产验证的工艺，以优异的均匀性，最高的产量，最小的系统停机时间和较低的拥有成本，实现最高质量的ALD沉积。

PICOSUN®P-1000 ALD系统可靠，快速且易于维护，代表了工业ALD的前沿。

PICOSUN®Morpher

PICOSUN®Morpher ALD产品平台旨在颠覆Beyond和超越摩尔技术中的200毫米晶圆产业。它以领先的过程质量，可靠性和操作敏捷性，实现了MEMS，传感器，LED，激光器，功率电子器件，光学器件和5G组件的快速，全自动，高通量生产。从公司研发到生产和铸造制造的所有业务领域，Morpher都能适应您行业不断变化的需求和客户的需求。基质材料，基质和批量大小方面的领先多功能性以及广泛的工艺范围，使Morpher真正成为可转变的，包罗万象的制造设施，使您始终引领行业。

PICOSUN®Morpher设计用于结合行业标准的单晶圆真空集群平台来全自动处理晶圆批次。革命性的获得 的晶圆批量翻转机制使该系统能够与半导体生产线集成，在该生产线中，大多数处理都是在水平几何结构中进行的，并且SEMI S2 / S8认证可确保该系统与业界最严格的标准兼容。

PICOSUN®Morpher ALD系统可通过SECS / GEM协议集成到工厂自动化中，而最先进的软件可通过直观，精简的图形用户界面为系统提供简单，安全和无故障的操作。凭借我们获得 的双室，热壁反应器设计以及完全分离的前驱体导管和入口，我们可以创造出最高质量的ALD膜，具有优异的产率，低颗粒水平以及出色的电学和光学性能。紧凑的，符合人体工程学的设计以及便捷的维护，确保了系统停机时间最少，市场拥有成本最低。

PICOSUN原子层沉积设备ALD可用于在激光器和功率器件的应用信息由北京亚科晨旭科技有限公司为您提供，如您想了解更多关于PICOSUN原子层沉积设备ALD可用于在激光器和功率器件的应用报价、型号、参数等信息，欢迎来电或留言咨询。