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发布时间:2022年08月
spectrumaSPECTRUMA 高分辨率辉光放电光谱仪 GDA 650/GDA 150可用于测定锂离子电池,适用于锂离子电池(LIB)分析项目。并且参考多项行业标准。可应用于新能源行业领域。
辉光放电光谱仪主要应用领域-汽车制造及零部件-金属加工、制造-冶金-航空、航天-电子工业-玻璃、陶瓷-表面处理:化学气相沉积、物理气相沉积等-电镀-光伏电池、锂电-科学研究
GDA 650/GDA 150的成功推出, 意味着以CCD检测器为代表技术的辉光放电光谱仪进入了新的高度。 GDA 650/GDA 150装备有最新一代的CCD固态检测器,与高分辨率光学系统完美匹配。新一代的CCD检测器不但具备传统光电倍增管的低噪声、宽动态范围的特点,而且还具备优异的分辨力和全谱数据采集能力,特别适合同时需要高精度检测和分析灵活性的用户。 高分辨率CCD光学系统使得GDA 650/GDA 150具备无限的扩展能力, 允许使用者在任何分析方法下任意扩展和增加任何分析通道。 这种灵活性允许进行快速的基体总量和涂镀层分析,所有元素,包括O,N,C等非金属元素均可进行定量分析。 在含量-深度测量中,分析深度可达200um以上, 层分辨率可达纳米级。GDA 650/GDA 150也可进行基体总量分析,尤其对于复杂基体,具备优异的线性校准曲线。检出限可达ppm级。 GDA 650/GDA 150装备有最新一代的辉光激发光源,溅射直径从1mm至8mm。采用通用样品夹具(USU),也可进行小样品和异形样品的分析,无需更换特殊电极。 GDA 650也可选装配置脉冲式射频光源(选装件),用于分析非导体材料。 采用脉冲式射频光源后,可分析非导体、热敏感样品,如:陶瓷、玻璃、有机涂层、有机薄膜。还可选装配置特殊样品转移室(选装件),用于分析极薄的薄膜和在空气中易氧化的薄膜。 激发光源同一激发光源允许安装直径为1mm至8mm电极,从而保证优秀的稳定性和重复性-高效的样品直接冷却。可直接分析热敏感样品、极薄的金属薄膜和有机薄膜。如可直接分析50um的不锈钢薄膜-优化的氩气流量控制,可以同时实现低检出限和高深度分辨率-专门设计的自动清扫装置,保证了高精度、高重复性测量最大样品分析厚度45mm,最小厚度50um-完全程序自动控制的直流光源(DC),电压最高可达1500V,电流250mA-完全程序自动控制的射频光源(RF),功率最大150W,电压、电流自动监控,实时等离子自动调节、脉冲工作模式(选装件、仅GDA 650有效)-选装件:自动进样器,程序控制100位 光学系统高性能CCD光学系统,光谱范围120--800nm-光谱分辨率优于20pm(FWHM) -Paschen-Runge光学系统, 焦距400mm-全息原刻光栅,2400线/mm-光室恒温控制,仪器稳定性优异-可无限制的配置分析通道,所有元素同时检测-方便易操作的透镜清洁,可立即进行分析-CCD检测器的灵敏度可自动调节 真空系统-全不锈钢壳体,可充分保证痕量元素的分析,尤其对于N元素分析-光室真空采用二级旋转叶片真空泵,噪音<50dB-单泵设计,同时运用于光源和光室-特殊的旋片真空泵,可最大限度的减少C,H元素的污染-内置安全阀设计,以避免突然断电对旋转叶片泵的损害-选装件:涡轮分子泵-选装件:旋转叶片真空泵可用无油真空泵替代 WinG DOES软件-WindowsXP或更高平台运行-使用界面简单、易懂,分级管理和操作-功能强大-方法建立简便,在线指导-校准样品管理,珍稀样品添加-多种校准模式-基体总量元素测量校准-QDP定量分析校准-用户定制测量报告模式-数据处理和再处理功能-多种格式数据输出-分析过程中界面语言切换应用-热处理精确测量所关心元素的含量-深度分布,定性、定量检测表面污染物、夹杂物和物相比例-涂镀层可获得涂镀层完整的化学组分信息、层厚度,元素含量-深度分布。非导体涂镀层,如:油漆、釉等可采用RF光源分析-硬质合金层快速分析硬质合金层和热处理工件的渗层化学组分-陶瓷采用RF光源可精确可靠的测量-化学组分精确测量化学元素含量高精度、高重复性检测快速分析:<60s可分析从H至U的所有元素, 检测范围从ppm至100%-太阳能电池薄膜检测太阳能光伏电池薄膜中化学元素含量分布,如:Cu(In,Ga)Se,采用RF光源可精确可靠的测量
GDSspectrumaSPECTRUMA 高分辨率辉光放电光谱仪 应用于新能源,GDA 650/GDA 150
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