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安捷伦三重四极杆 ICP-MSAgilent 8900 参考多项行业标准。完成超纯半导体级硫酸的检测。可以用在电子/半导体行业领域中的42 种元素项目。
使用 Agilent 8900 半导体配置 ICP-MS/MS,成功测定了半导体级 H2SO4 中超痕量水平下的 42 种元素。1/10 稀释的 H2SO4 中,20 ppt 水平(Si 为 2 ppb)下的所有元素均获得了优异的加标回收率,证明8900 ICP-MS/MS 方法适用于高纯度工艺化学品的常规分析。
受控的反应化学过程提供一致、可靠的结果
分离重叠的同量异位素,超越高分辨率 ICP-MS 的能力
极低检测限,甚至可用于以前难以检测的元素,例如 S、Si、P
功能强大的 ICP-MS MassHunter 软件可简化您的工作流程并使方法开发自动化
标准 4 通道反应池气体控制
独特的母离子/子离子扫描模式,清除呈现反应过程
用于研究和方法开发的出色通用的 ICP-MS
监测原料化学品和硅片加工浴中的低水平超痕量污染物
定量分析未知蛋白质和多肽,以准确测量低浓度的异质元素硫和磷
对复杂环境、食品和生物样品中低至亚 50 纳米的纳米颗粒进行表征
以更高的准确度测量所有食品样品中的低浓度硒、砷和各种形态的砷
安捷伦ICP-MSAgilent 8900 使用 Agilent 8900 ICP-MS/MS 在MS/MS 模式下测定超纯半导体级硫酸中的痕量元素,Agilent 8900
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