您好,欢迎您查看分析测试百科网,请问有什么帮助您的?
如果企业客服不在线,也可拨打400电话联系。或者发布求购信息
PlasmaPro 100 Estrelas 平台旨在提供深硅蚀刻(DSiE)领域的全方位的灵活性以满足微电子机械系统(MEMS)、 先进封装以及纳米技术市场的各种工艺要求。考虑到研究和生产的市场发展,PlasmaPro 100 Estrelas 提供了工艺灵活性。
光滑侧壁工艺
高刻蚀速率腔刻蚀
高深宽比工艺
锥形通孔刻蚀
广泛的应用领域
机械或静电压盘
加热内衬
改善重复性
延长了两次清洗间的平均时间间隔(MTBC)
PlasmaPro 100 Estrelas平台旨在确保覆盖MEMS,先进封装和纳米技术的广泛应用,从光滑侧壁工艺到高刻蚀速率腔刻蚀、高深宽比工艺和锥形通孔刻蚀,不需要更换腔室硬件就可以实现。
硬件设计使同一腔室中可进行Bosch™和超低温刻蚀工艺,使得纳米和微米结构刻蚀均可实现
兼容50mm至200mm的衬底 - 确保您只需一台系统,便具备从研发器件到量产的能力
自动匹配 - 拥有工艺灵活性
更高流量的质量流量计以及等离子发生器 - 自由基密度更高
减小的腔体尺寸和高效率的泵 - 确保气体高速流通
快速近距离耦合质量流量计 - 快速控制(初始为ALD而开发)
牛津仪器PlasmaPro100 Estrelas刻蚀设备 锥形通孔刻蚀, PlasmaPro100 Estrelas
牛津仪器PlasmaPro100 Estrelas刻蚀设备 锥形通孔刻蚀信息由牛津仪器科技(上海)有限公司为您提供,如您想了解更多关于 牛津仪器PlasmaPro100 Estrelas刻蚀设备 锥形通孔刻蚀报价、型号、参数等信息,欢迎来电或留言咨询。
牛津仪器Andor iKon-XL CCD相机
牛津 元素分析仪 Xplore
牛津干式制冷机Optistat Dry
群组论坛--测试分析仪器专家
您可能要找:牛津仪器半导体检测仪 牛津仪器PlasmaPro100 Estrelas刻蚀设备 锥形通孔刻蚀价格 PlasmaPro100 Estrelas半导体检测仪参数
Copyright ©2007 ANTPedia, All Rights Reserved
京ICP备07018254号 京公网安备1101085018 电信与信息服务业务经营许可证:京ICP证110310号