Quantum X align 3D打印系统

Quantum X align

Quantum X align作为一流的3D打印系统具备了A2PL®专利对准双光子光刻技术，可实现在光纤和光子芯片上的纳米级精确对准。3D printing by 2GL®在实现优异的打印质量同时兼顾打印速度，适用于微光学制造和光子封装领域。

与光子世界相连

在光栅耦合器上实现纳米级精确对准打印微透镜阵列

在光子芯片表面上实现纳米级精确对准打印自由空间微光学耦合元件

带有8个端口的透镜光纤阵列（LFA）。使用纳米级精确对准打印技术在光纤阵列表面上3D打印微光学元件

Quantum X align

Aligned 2-Photon Lithography (A2PL)

drives innovation in photonics packaging

在光纤和芯片上进行打印

优化硬件和工作流程，实现在标准或定制光纤阵列和光子芯片上进行打印

纳米级精度3D对准技术

具备纳米精度的芯片和光纤上衬底拓扑测量和三维对准

3D printing by 2GL

全新3D微纳加工技术，具有实时体素调谐，以实现卓越的打印质量和速度

3D printing by 2GL

纳米级精确对准打印系统

具备对准双光子光刻技术(A2PL®)的Quantum X align是同类产品中最快、最先进的3D微纳加工系统。Nanoscribe独有的体素调谐技术2GL®可以在确保卓越的打印质量的同时兼顾打印速度，实现自由曲面微光学元件通过3D打印精确对准到光纤或光子芯片的光学轴线上。这些3D打印的微光学元件可作为自由空间微光学耦合（FSMOC）元素，实现光子器件之间的高效光耦合，以促进光子封装或用于微型成像光学发展。

从对准到打印一气呵成

集成光子学(PIC)或小型化医疗设备的封装通常需要各种微光学元件相互之间进行繁琐的放置和手动对准流程。Quantum X align完美简化了这一过程，实现了光子芯片或光纤芯上的光学接口自动检测，以及自由曲面微光学或衍射元件可直接打印到位。在实现更紧凑设备的同时减少了装配工差，并大大降低了工艺链的复杂性，避免了原本耗资巨大的手动对准流程。

对准光纤和光子芯片

当在单劈型光纤或v型槽光纤阵列上打印时，光纤照明单元和智能软件例程（如自动倾斜补偿功能）确保了精确对准，自动检测例程确保最低的耦合损失和最高的可重复性。

Quantum X Align还配置 了一个用于基板拓扑3D构图的共焦检测模块，并通过图案匹配实现对基准点的全自动3D对准。这使得Quantum X align成为将微光学元件直接打印到光子芯片表面或刻面上的完美工具，适用于光子封装领域。

精准实现您的想法

对准双光子光刻技术结合纳米级精确对准技术，以及强大且用户友好的工作流程，为三维微纳光学以外的其他微纳加工应用开辟了新的机会。从微流体到复杂的传感器系统或MEMS: Quantum X align是高精度3D微纳加工的完美工具，可在复杂3D衬底，甚至是倾斜或倾斜的结构上，以最高精度实现自动定位。

技术特点

• 通过对准双光子光刻技术（A2PL®）实现高性能3D微纳加工

• 2GL®双光子灰度光刻3D打印技术，兼顾卓越的打印质量和高效的打印速度

• 用于3D打印的强大的nanoPrintX软件，实现对光纤芯和芯片以及其他基板的精确定位

• 光纤照明单元用于光纤芯检测，确保打印精准对准到光纤的光学轴线上

• 共焦检测模块用于3D基板拓扑构图，实现在芯片的表面和面上的精准打印对准

• 专有的基板夹具，适用于光纤、光纤阵列和光子芯片

打印程序和工作流程

• 基于双光子聚合（2PP）的高精度3D打印

• 对准双光子光刻技术(A2PL®)用于相对于基准点或在光纤面上打印结构

• 3D printing by 2GL®以惊人的速度和精准度打印任何自由曲面结构设计

• 采用Dip-in激光光刻（DiLL）进行简单、可靠的设置

• 3D对准检测准确度高达100纳米

• 100纳米最低特征尺寸控制

D printing by 2GL®
兼顾卓越的打印质量和高效的打印速度

我们绝不妥协！具备专利体素调谐技术的3D printing by 2GL®实现了同时兼顾打印质量与打印速度的要求。双光子灰度光刻在3D纳米和微纳加工领域树立了全新标准。使用市场上最快速的纳米精密增材制造技术，可以打印任何3D形状。您准备好迎接真正出色的打印效果了吗？

具备卓越形状精度的高精度打印

3D printing by 2GL®将Nanoscribe的灰度技术推向了三维层面。整个打印过程在最高速度扫描的同时实现实时动态调制激光功率。这使得聚合的体素得到精确尺寸调整，以完美匹配任何3D形状的轮廓。在无需切片步骤，不产生形状失真的要求下，最终您将获得具有无瑕疵光学表面的任意3D打印设计的真实完美形状。

3D打印的小船模型被分成两部分。左侧部分由2GL技术进行3D打印，右侧部分采用传统的基于2PP的3D打印技术制作。两部分都在完全相同的切片距离下打印，因此打印时间相同。然而，使用2GL技术无需切片步骤，小船的真实形状得以呈现，不受任何与体素相关的形变影响。

高达60倍高吞吐量

3D printing by 2GL®是市场上基于2PP原理微纳加工技术中打印速度最快的。其动态体素调整需要相对较少的打印层次，即可实现具有光学级别、光滑以及纳米结构表面打印结果。这意味着在满足苛刻的打印质量要求的同时，其打印速度远远超过任何当前可用的2PP三维打印系统。
2GL®作为市场上最快的增材制造技术，非常适用于3D纳米和微纳加工，在满足卓越打印质量的前提下，其吞吐量相比任何当前双光子光刻系统都高出10到60倍。

*比较是基于相同的打印质量，并且与设计有关。

使用一款非常有竞争力的2PP系统（左侧）和通过2GL（右侧）进行小船3D打印的速度比较。为了获得最高的打印质量，2PP打印的船的切片距离设置为0.1微米（"Fine"）。相反，通过2GL进行3D打印的相同对象（"Grayscale"）采用明显粗糙的1微米切片，打印时间缩短了10倍。

与光子世界相连

在V型槽光纤阵列中对齐并在各自的光纤上打印的示例自由曲面微光学器件。探索无限的设计自由度和光学级质量。

模场整形微光学器件的渲染和打印，以亚微米精度对准并打印到光子芯片的表面 。Handheld OCT研究项目样本

在V型槽光纤阵列的端面上打印的8个微透镜，与光学轴线精确对准。 （1）SEM图像（2）显微镜图像：绿光聚焦成平行光束，演示透镜光纤的光学投影的精确性。 （3）渲染图像，说明将光从透镜光纤耦合到具有宽松对准容差的透镜芯片的用例。

为微型内窥镜开发的高精度光学系统。通过双光子灰度光刻（2GL）3D打印的堆叠式自由曲面透镜。这三个透镜由纹理支撑结构支持，避免背反射。所有自由曲面透镜在顶部和底部都具有光学级表面，将衍射和折射元素集成在一个光学系统中，并在一次打印中完成。由Nanoscribe制造，由Printoptix设计透镜。

堆叠式透镜系统的特写，显示自由曲面顶部透镜和中央混合透镜的衍射元素。通过2GL三维打印，实现光学表面，无需任何切片步骤，并具有用于衍射光学元素所需的锐利边缘。由Nanoscribe制造，由Printoptix设计透镜。

该微内窥镜渲染中的光学三元系统采用堆叠式透镜配置，为深度脑成像等提供最高放大倍数和分辨率。其非球面设计和衍射表面实现了在可见光范围内的广谱成像。由Nanoscribe制造，由Printoptix设计透镜。

Quantum X align真实数据

主要特点

• 基于A2PL®技术在光纤和芯片上进行微光学元件的高性能3D打印

• 通过双光子灰度光刻（2GL）进行3D打印，兼顾卓越的打印质量和无与伦比的打印速度

• 智能切片可实现优化分辨率、精度和速度

• 在所有空间方向具有纳米精度的自动三维对准系统

• 基于光纤照明单元的高精度光纤芯检测

• 利用共焦检测模块进行基板拓扑3D建图

•  使用nanoPrintX软件对芯片和其他衬底上的基准点定义结构位置

• 自动基板倾斜识别和打印调整

• 针对光纤、光纤阵列和光子芯片的基板夹具

设计理念

经过精确对准的自由曲面微光学器件的快速原型制作原型制作和小批量生产

• 用于光互连的透镜光纤阵列

• 单根光纤或光纤阵列上的成像和光束整形光学元件

• 集成光子芯片上的光互连

• 集成光子芯片上的光束整形或光收集

专为在科研和工业领域的领先者和创新者而量身设计

• 集成光子学

• 光子封装

• 医疗器械

• 光学传感

• 量子技术

规格

基准数据

系统属性

提供的数据可能会因光刻胶和结构几何的不同而变化。
1 检测精度取决于所选方法
2 所有空间方向上的100 nm特征尺寸控制
3 典型应用的最佳情况，取决于设计、基板质量和测量方法

Joost van Kerkhof, Chief Operations Officer of PHIX Photonics Assembly

我们对Nanoscribe的新型3D对准打印技术充满信心，该技术可用于生产具有几乎任何光学设计的透镜光纤阵列和透镜芯片。

使用nanoPrintX设置场景

更智能地构建并精确对准到您的打印项目

nanoPrintX不仅仅是一个3D打印系统的切片软件，它更是一个全新多功能的工具软件，可以为对准3D打印创建复杂的打印项目并支持我们革命性的2GL专利技术。该软件基于一种树状的数据结构场景图概念，为所有与打印有关的对象和操作提供了一个层次化的组织，能够灵活 地定义打印的内容、位置、空间方向和方式。直观的软件架构与中央渲染画布相结合，提供了关于所有元素彼此之间以及与预定义位置或基板之间的位置和空间排列的即时视觉反馈。

使用nanoPrintX构建您的打印项目：通过创建特定基板（如光纤或带有单独对准标记的光子芯片）的虚拟模型来定义打印场景。导入您的3D打印设计，使用预安装的简单几何形状作为构建模块，或使用nanoPrintX的参数设计工具生成球面和非球面镜设计。根据需要为各个设计分配预先设置的打印参数，并通过全新的2GL®3D打印预设获得最佳设计效果。最后在Quantum X align系统上实时看到上传的打印结果以确保获得最佳打印效果。

通过触控屏启动您的打印项目：Quantum X align打印系统配备直观的控摸屏用户界面，可以轻松地引导您完成打印任务。首先在衬底上标记起始位置，使用高分辨率的实时摄像头进行仔细检查，然后启动您的打印项目。系统会自动以亚微米级精确度将打印项目与您的标记进行对准。

用nanoConnectX与系统保持连线：您可以在办公室通过远程访问软件nanoConnectX启动并监控您的打印项目。该软件将Quantum X align 打印系统的前触控屏的所有操控功能和显示功能展现在您的计算机上。Quantum X align 非常适用于生产环境和多用户场景。

关于软件

nanoPrintX

nanoPrintX是用于双光子光刻对准打印系统Quantum X align的打印项目开发软件。其用户友好的树状数据结构能引导您通过简单几步操作完成光纤、光子芯片和其他预图案化基板的对准打印。

关键特点

• 所有打印相关操作的直观树状数据结构 

• 打印参数预设，确保最佳打印效果

• 2GL®3D打印，提供卓越打印质量和无与伦比的打印速度 

• 加载单独的.png图像作为共焦检测的基准

• 剂量补偿，确保基板边缘的完美结果

• 光纤打印节点，实现对准和倾斜补偿打印 

• 基于ISO标准10110的参数镜头设计工具
   

Touchscreen触摸屏

使用Quantum X align的18.5英寸前置触控屏及其图形用户界面（GUI）来监控高分辨率3D打印系统。只需简单操作就能引导您实现完成打印：先选择打印项目，然后加载基板并开始打印。

关键特性

• 三个实时摄像头可以从不同角度实时监控打印过程 

• 虚拟导航相机（打印设置的3D模型）实现在基板上精确、轻松导航

•  所有空间方向的轻松操控，实现将平台移动到基板上的任意位置

• 用户友好的打印设置，简化从打印项目到打印执行的工作流程

nanoConnectX

nanoConnectX是Quantum X的远程访问软件。它将触控屏的所有功能和显示功能带到任何联网的计算机上。

关键特性

• 过远程访问软件将Quantum X系统连接到您的计算机

• 使用触控屏的所有功能，实现从任何地点准备、操控和监控您的打印任务

• 直接从计算机下载和上传打印项目

用新功能创造更多机会

Quantum X align的打印仓内视图。光纤照明单元将光耦合到光纤中，以进行自动检测并将打印对准到光纤的光学轴。照明单元可同时支持多达32根光纤。

Quantum X平台的远程访问软件nanoPrintX的截图。该图显示了锥形波导和四个对准标记的实时共焦图像。

Quantum X平台的触控屏具备高效实用性特点。虚拟导航摄像头提供有关打印头精确位置的额外反馈，并简化对复杂基板的导航。

光纤基板夹具配备不同的入口，以确保安全固定各种光纤基板，如光纤阵列、单根切割的光纤、FC/PC光纤连接器等。最多可同时处理四个光纤阵列，用于小批量生产。

用于芯片对准打印的基板夹具具备易用性特点，配备gelpak©可轻松固定一个或多个芯片进行批量处理。打印后，芯片可以轻松从基板夹具中取出，确保不会损坏已加工的芯片。

在nanoPrintX中对准打印项目的截图。耦合透镜相对于芯片边缘的对准标记放置。Quantum X align的打印准备和对准软件依赖于一种类似树状结构的数据结构，提供对所有与打印相关的对象和操作的层次化组织。

Quantum X align 3D打印系统信息由纳糯三维科技（上海）有限公司 为您提供，如您想了解更多关于Quantum X align 3D打印系统报价、型号、参数等信息，欢迎来电或留言咨询。