小型真空钨舟热蒸镀仪KT-Z1650CVD

小型真空钨舟热蒸镀仪KT-Z1650CVD

KT-Z1650CVD 是一款小型台式加热功率可控蒸发镀膜仪，仪器虽 小功能齐全。配备 7 寸触摸屏人工界面，具有电流时间工艺储存功 能。配备有电压 电流反馈,样品台旋转，样品高度调节，及自动电动 样品挡板功能。通过定时调节预热功率及蒸发功率，可对大部分金 属（金，银，铜，铬，镍等）和有机物进行均匀蒸发沉积。真空腔 室为透明石英玻璃减少样品污染，样品台可旋转以获得更均匀的薄 膜，可制备各种金属薄膜和有机物薄膜。

　　是一款小型多功能镀膜仪，额定1800度高温，自动样品挡板，靶台旋转，触摸屏多段控制，工艺储存等功能。

　　真空蒸发镀膜包括以下基本过程：（1）加热蒸发过程：包括由凝聚相转变为气相的过程，每种蒸发物质在不同的温度有不同的饱和蒸气压。（2）气态原子或分子在蒸发源与基片之间运输，即原子或分子在环境气氛中的飞行过程。

　　（3）蒸发原子或分子在基片表面张得沉积过程。即是蒸发，凝聚，成核，核生长，形成连续的膜。由于基板温度远

　　低于基板温度远低于蒸发源温度，因此，气态分子在基片表面将发生直接由气态到固态的相转变过程。

1.铜靶材Cu target 郑科探小型磁控溅射靶材镀膜铜膜料颗粒铜

2.金颗粒5N99.999%金线金丝黄金靶材蒸发热蒸发黄金镀膜 郑科探

3.钼舟钨舟钼蒸发舟 钨蒸发舟 热蒸发镀膜钽舟坩锅

4.有机物蒸发坩埚OLED QLED 太阳能TFT钨钼蒸发舟钨舟钼舟石英坩埚

5.氮化硼靶材 磁控溅射 BN靶材 氮化硼薄膜 氮化硼片 氮化硼板

6.4N5N金靶材磁控溅射镀膜离子溅射仪靶材 电子束热蒸发sem电镜

7.铬颗粒膜料金属铬铬靶材 铬块铬柱铬粉热蒸发电子束蒸发镀膜

8.氧化铝颗粒三氧化二铝Al2O3圆片膜料镀膜靶材电子束蒸发磁控溅射

9.二氧化硅靶材石英靶材石英环二氧化硅圆环膜料磁控溅射镀膜热蒸发

10.金颗粒5N99.999%金线金丝黄金靶材电子束蒸发热蒸发黄金镀膜

11.磁控溅射用高纯银靶材Ag靶纯度99.99%高纯银锭银板银靶高纯银靶材

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小型蒸镀仪

一

我公司专为科研院所及实验室用户群体设计开发的一款小型高真空蒸发镀膜系统。采用大抽速分子泵准无油高真空系统，机架电控一体化设计，整体布局紧凑合理，充分考虑人机工程学的倾斜操控面板和可直观观察蒸发状态的玻璃真空室结构相得益彰。两组/三组蒸发源可兼容金属、有机物蒸发。广泛应用于高校、科研院所制备功能薄膜、蒸镀电极、扫描电镜制样等，特别适合太阳能电池、有机EL、LED显示管研究与开发领域。

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