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发布时间:2023年05月
JSM-7200F的电子光学系统应用了日本电子旗舰机-JSM-7800F Prime采用的浸没式肖特基电子枪技术,标配了TTLS系统(Through-The-Lens System),因此无论是在高/低加速电压下,空间分辨率都比传统机型有了很大的提升。
<特点>
JSM-7200F的主要特点有:应用了浸没式肖特基电子枪技术的电子光学系统;利用GB(Gentle Beam 模式)和各种检测器在低加速电压下能进行高分辨观察和选择信号的TTLS系统(Through-The-Lens System);电磁场叠加的混合式物镜。
浸没式肖特基电子枪
浸没式肖特基场发射电子枪为日本电子的专利技术,通过对电子枪和低像差聚光镜进行优化,能有效利用从电子枪中发射的电子,即使电子束流很大也能获得很细的束斑。因而可以实现高通量分析(EDS、WDS面分析、EBSD分析等)。
TTLS(through-the-lens系统)
TTLS(through-the-lens系统)是利用GB(Gentle Beam 模式)在低加速电压下能进行高分辨率观察和信号选择的系统。 利用GB(Gentle Beam 模式)通过给样品加以偏压,对入射电子有减速、对样品中发射出的电子有加速作用,即使在低加速电压(入射电压)下,也能获得信噪比良好的高分辨率图像。 此外,利用安装在TTLS的能量过滤器过滤电压,可以调节二次电子的检测量。这样在极低加速电压的条件下,用高位检测器(UED)就可以只获取来自样品浅表面的大角度背散射电子。因过滤电压用UED没有检测出的低能量电子,可以用高位二次电子检测器(USD,选配件)检测出来,因此JSM-7200F能同时获取二次电子像和背散射电子像。
混合式物镜(电磁场叠加)
JSM-7200F的物镜采用了本公司新开发的混合式透镜。 这种混合式透镜是组合了磁透镜和静电透镜的电磁场叠加型物镜,比传统的out-lens像差小,能获得更高的空间分辨率。 JSM-7200F仍然保持了out-lens的易用性,所以可以观察和分析磁性材料样品。
应用实例
◇ 利用混合式物镜、GB(Gentle Beam 模式)进行观察的实例
利用低像差的混合式物镜和GB 模式,即使对不导电样品也能在极低的加速电压下进行高分辨率成像。
样品: 介孔二氧化硅 (中国上海交通大学车顺爱教授)
◇ 使用高位检测器(UED)、能量过滤器进行观察的实例
下图是利用UED在低加速电压条件下获得的背散射电子像。由于是大角度散射电子成像,成份信息非常丰富,但加速电压为0.8kV比在5kV时的测试,能获得更细微的浅表面信息。象这样在极低加速电压下要获取样品浅表面的背散射电子成份像,不仅需要高位检测器,还需要用来去除二次电子的能量过滤器。
样品:镀金表面, 能量过滤器: -250 V
主要选配件
可插拔式背散射电子探头(RBED)
高位二次电子探头(USD)
低真空二次电子探头(LV-SED)
能谱仪(EDS)
波谱仪(WDS)
电子背散射衍射系统(EBSD)
阴极荧光系统(CLD)
样品台导航系统(SNS)
电子束曝光系统
JSM-7200F 热场发射扫描电子显微镜,JSM-7200F
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