北方华创Polaris系列通用物理气相沉积系统

Polaris 系列PVD金属薄膜物理气相沉积系统主要由真空传输平台，去气腔室，预清洁腔室和工艺腔室组成，设备采用Cluster Tool架构，可配置多个工艺腔室、预清洗腔室和去气腔室，适合封装领域薄膜制备大规模生产。Polaris 系列PVD为全自动大产能设备，具有wafer自动传输，工艺去气，晶片表面预清洁、薄膜沉积完全自动化等特点。

设备特点

• 独特的磁控溅射源和腔室结构的设计有效提高靶材利用率

• 灵活的腔室配置

• 针对先进封装领域优化、稳定的传输系统，兼容玻璃片、翘曲片、键合片等多种类型基片传输

• 稳定并且低的Rc表现，良好的颗粒和应力控制能力

• 优化的工艺流程带来大产能表现，低运营成本

产品应用

• 晶圆尺寸：6、8、12 英寸

• 适用材料：铜、钛、氮化钛、钽、氮化钽、钨化钛、金、铝等

• 适用工艺：电极、先进封装中的UBM/RDL

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