NEE-4000 (A) 全自动电子束蒸发系统物理气相沉积(PVD) NEE-4000 (A) 应用于电子/半导体

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NEE-4000（A）全自动电子束蒸发系统：NEE-4000电子束蒸发系统为双腔配置，样品台位于主腔体，二级腔体则用于安置电子束源。两腔体之间的门阀作为预真空锁，使得电子束源腔体保持真空的情况下，通过主腔放入基片到样平台（或夹具）上或从中取出。自动装/卸载基片可通过第三方的预真空锁实现。通过PC计算机控制，系统可以提供多电子束源的共蒸发能力，以及对组分或组分梯度进行编程的能力。

·         双电子束源

·         多凹槽电子枪

·         可编程电子束扫描

·         10KW开关电源

·         涡轮分子泵，极限真空5x10^-7Torr

·         自动上下载片

·         材料和衬垫更换非常方便

·         晶振式膜厚监测仪

·         通过LabView软件实现PC计算机控制

·         菜单驱动，四级访问密码保护

·         完全的安全联锁

产品型号：

·         NEE-3500：计算机全自动控制的紧凑型独立系统

·         NEE-4000：计算机全自动控制的独立系统

NEE-4000（A）全自动电子束蒸发系统概述：NANO-MASTER NEE-4000电子束蒸发系统为双腔体的配置，其中样品台位于主腔体内，二级腔体则用于安置电子束源。这种在两个腔体之间带有门阀的配置可以作为预真空锁，使得电子束源腔体保持真空的情况下，实现基片通过主腔体放入基片到样平台(或夹具)上或从中取出。在需要自动装/卸载基片时，他可以通过第三方的预真空锁来实现，这可以设置于立方体的左侧。通过PC计算机控制，系统可以提供多电子束源的共蒸发能力，以及对组分或组分梯度进行编程的能力。

NEE-4000（A）全自动电子束蒸发系统特点：

·         顺序蒸发或共蒸发

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