EHC LUP300‑56 紫外线偏振曝光装置

EHC LUP300‑56 紫外线偏振曝光装置

01  主要用途

液晶光取向  用于液晶取向工艺的紫外线偏振曝光。

紫外线敏感材料  用于紫外线敏感型材料的偏振曝光研究。

多种基材  用于塑料、无机薄膜、金属等材料的偏振曝光实验。

02  产品介绍

EHC LUP300‑56 紫外线偏振曝光装置面向各种需要偏振紫外线曝光的应用开发。目前主要用于液晶光取向工艺中的偏振曝光实验及研究开发。随着紫外线敏感型材料应用的增加，对其他各类材料进行偏振紫外线照射及研究其反应也具有重要意义。本设备旨在满足相关科研与开发人员的实验需求。

03  主要技术规格

说明：如需更大照射面积的偏振曝光装置，请另行向制造商咨询。

04  紫外线辐照强度

汞氙灯辐射光谱各测量位置对应的辐照强度如下。原图已注明：光谱曲线高度与实际测量值不同。

05  辐照度与偏振度的测试方法

辐照度评价采用 5 枚宽带滤光片和硅光电二极管。依据滤光片透射率与硅光电二极管的光谱响应灵敏度，计算各波长范围内的辐照度。所用硅光电二极管按照日本电子技术综合研究所（电总研）的光谱响应标准进行了校准。

测量结果显示，在 250～295 nm 波段内，辐照度为 11.57 mW/cm²。此外，使用格兰－汤姆逊棱镜（Glan–Thompson Prism）作为检偏器进行评价，确认该波段的偏振度为 98%（仅 S 偏振光）。

06  设备外形尺寸

原始资料中提供正视图、侧视图和主要尺寸标注：长约 700、宽约 280、高约 600（按常用机械图纸表示，推定单位为 mm，正式使用请与厂家确认）。

图 3  设备外形尺寸示意图（原资料尺寸图）

07  典型应用

① 液晶光取向工艺中的紫外线偏振曝光实验；② 紫外线敏感型材料的偏振曝光实验；③ 塑料、无机膜、有机膜、金属等材料的偏振曝光研究。

EHC LUP300‑56 紫外线偏振曝光装置信息由轲润实验器材（上海）有限公司为您提供，如您想了解更多关于EHC LUP300‑56 紫外线偏振曝光装置报价、型号、参数等信息，欢迎来电或留言咨询。