Edmund Coherent® LightSmyth™ 纳米图案硅印章

产品简介

Coherent® LightSmyth™ 纳米图案硅印章由在单晶硅基板上形成图案的纳米级纹理表面组成。通过反应离子蚀刻，具有梯形横截面的线性凹槽被蚀刻到基板表面，类似于传统的光栅。蚀刻工艺可为这些凹槽提供不同的周期和深度规格，以及更复杂的图案，例如晶格。II-VI LightSmyth™ 纳米图案硅印章是光学和光子学、生物学、化学、纳米压印和微流体领域的纳米光子学研究应用的理想选择。

**请注意:** II-VI Incorporated 已变更为 Coherent Corp.

• 纳米级纹理凹槽表面
• 可变凹槽周期和凹槽深度
• 纳米光子学研究应用的理想选择

通用规格

型号选择

定制服务

Edmund Optics为您提供全面的光学和成像元件定制服务，精准满足特定应用需求。无论您的项目处于原型开发阶段还是筹备量产阶段，我们都能为您提供灵活的解决方案。从概念设计到产品交付，我们经验丰富的工程师团队将为您提供全程支持。

我们的核心能力包括:

• 尺寸定制、材料定制、镀膜定制等

• 高精度表面质量与平整度控制

• 严格的公差要求与复杂的几何形状加工

• 可灵活扩展的生产体系 — 从样品试产到批量生产

进一步了解我们的定制生产能力 或在此提交咨询需求。

技术数据

##### SEM Image of 855nm, 200nm Groove Depth Linear Silicon Nanostamps (Cross Section)

##### SEM Image of 855nm, 200nm Groove Depth Linear Silicon Nanostamps (Top Down)

##### SEM Image of 139nm, 50nm Groove Depth Linear Silicon Nanostamps (Cross Section)

##### SEM Image of 139nm, 50nm Groove Depth Linear Silicon Nanostamps (Top Down)

产品图集

Edmund Coherent® LightSmyth™ 纳米图案硅印章信息由江阴韵翔光电技术有限公司为您提供，如您想了解更多关于Edmund Coherent® LightSmyth™ 纳米图案硅印章报价、型号、参数等信息，欢迎来电或留言咨询。