全球半导体制造已步入工业4.0的智能制造时代，其中工业4.0的概念并非创造新颖技术，而是藉由制造的智能数字化，将数据汇集于云端形成庞大的数据库，透过大数据分析快速调整制程以迅速因应产品变化。 这样的理念引入半导体工艺的AMC控管，将能有效地管理并控制AMC造成的良率冲击。

选择金兆益的「全厂区 AMC 标准监测全方案」将使您的智能制造无懈可击。

透过AMC监测流程的完整性、AMC资讯收集的全面性与设备机况管理的主动性，将使您获取高可靠的数据，在24/7运作下积累的数据能观察制程环境AMC的变化趋势与制程环境质量，使AMC无所遁形。 一旦AMC触击管制限制，内建AI自动警示系统将直接汇报至客户厂区内的管理系统，协助实时拟定处理策略。
 

AMC 监测流程的完整性与智能机况管理

透过内建完整的标准解决方案，成功整合复杂的作动程序，包含于相异制程区域使用不同的空气采样、样品前处理，以及AMC解析定量与资料整合等多个步骤。 若以人工作方式进行这些步骤，每一阶段都存在着误差风险。 然而，透过流程标准完整性作，能将人因误差趋近于零。

确认系统状况 （Check system status）

在连续样品解析时，为确保监测设备在最佳效能下运行，内建AMC实时AI定量校准功能，自主查看机况并进行调整，确保各区环境监测都能取得可靠的数值结果。

超标智能锁点机制 （Over limit AI locking mechanism）

当环境中的AMC触击管制限制时，内建AI自动警示系统将直接汇报至客户厂区内的管理系统，同时，决策管理区域范围并启动智能锁点机制。

提供全面与完整性的AMC监测

在一个良好控制的制程环境中，大部分AMC来自制程厂区材料与人员的逸散，或是制程化学品的交叉污染与反应后的副产物，因此AMC的危机来自多个方向。 面对未知AMC可能会突然出现并影响产品良率，此解决方案涵盖未知AMC的查找服务，协助客户建立全面与完整性的AMC监测。

NFA-1007Ad 内建 NF Semi Library 集合了多种半导体制程区的 VOCs 资讯，这是由金兆益经验积累下专为半导体产业打造的全面 VOCs 数据库。 当未知VOCs出现时，可以直接使用该数据库进行VOCs定性确认。

NFA-C350 已将半导体制程常见的 MA、MB 纳入监测清单中，若未来有扩增监测物种的需求，金兆益技术团队将提供协助，共同开发相应的技术方法。

AMC 数值具比对性

金兆益高度关注监测设备与实验室分析仪器产出之数据能有足够比对性，也等同于两者输出的AMC浓度数值建立在相同基准下，我们遵守以下三项核心原则，以有效进行相异设备或厂区间的数据讨论：

1. 遵从半导体实验室品管技术

2. 采用专用分析标准品重新建立浓度定义与校准

3. 提供校准入样口（matching port）作为相同分析标准品之导入通道，进行比对之用

实务应用

在半导体制程中，全厂区AMC常态监测设备通常会放置于sub-fab，并透过多组管路布置在fab重点关注的位置，落实对制造厂区全面性AMC的24/7监测与趋势管理。

金兆益 NFA-C350 在线MA/MB微污染监测设备信息由金兆益科技股份有限公司为您提供，如您想了解更多关于金兆益 NFA-C350 在线MA/MB微污染监测设备报价、型号、参数等信息，欢迎来电或留言咨询。