化合物刷洗机 HSC-S1300

化合物刷洗机 HSC-S1300

HSC-S1300是华海清科面向市场需求研发的主要应用于4/6/8英寸化合物半导体的刷片清洗装备，具备正面和背面刷洗功能，集成性能优越的清洗及干燥技术，兼容酸性溶液清洗/碱性溶液清洗、透光/不透光晶片清洗。

主要应用于4/6/8英寸化合物半导体的清洗

具备正面和背面刷片功能

满足干进千出和湿进干出两种模式

机台兼容酸性溶液清洗和碱性溶液清洗机台兼容透光和不透光晶片的清洗

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