VPG 800 / VPG 1400 有掩膜光刻机

简介

VPG 800/1400 是一款为高通量光掩模图案化定制的有掩膜光刻机，特别适用于平板显示器如TFT阵列、彩色滤光片等制造，同时满足先进封装、半导体、LED及触摸屏应用的需求。该系统具备大光刻面积、高速曝光、高性能平台及多种配置选项，提供先进的温控环境室和精确的对位功能，尤其VPG+1400针对显示器行业进行了优化设计。

VPG 800 / VPG 1400 有掩膜光刻机为光掩模（0.8至1.4 m）的高通量图案化而定制。VPG1400是我们专为显示行业设计的最大的系统。它是平板显示器 （FPD） 应用的好的选择，例如 TFT 阵列、彩色滤光片和 ITO。这些工具还用于先进封装、半导体、LED 和触摸屏应用的工业大面积光掩模应用。

特点

大光刻面积VPG+：技术的领航

大光刻面积的VPG  +维持原VPG系列为根基再进化，使其更加出色。VPG于2007年推出;  是拥有专利的量产型曝光技术光刻系统，可靠和经济的解决方案，适用于要求严谨的掩膜板制造。

速度更快：超高速曝光

VPG+系列具有海德堡所研发的高速光学调制器，在速度最大化下，曝光时间可以达到原始VPG的三倍！强化了曝光动能与数据传输路径。

功能和选项：配备性能

VPG  +可配置各种平台尺寸，最大可达1400mmx1400mm。  该系统具有355nm波长的紫外激光源，空气轴承平台，半自动或全自动入料器，用于基板装载和最先进的温控环境室。

应用：光罩制造和直接写入

大光刻面积的VPG  +系统适用于advanced packaging, semiconductors, displays, color filters, light  emitting diodes, touch panel以及life  science应用。出色的图像质量和对位功能，也非常适合在大面积执行多层套刻直写。

VPG+  最大型的设备VPG+  1400专门针对显示器相关行业应用：是所有VPG+系列中功能最强大，具有极其完善的温控环境室，差分干涉仪和先进的mura校正以及面板间距优化功能。

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